판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9391711

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 정확한 광학 석판 처리를 가능하게하는 포토 esist 장비입니다. Photoresist는 마이크로 일렉트로닉스 제작에서 패턴을 만드는 데 사용되는 적외선 민감성 또는 가시광선 민감성 물질입니다. 이 "시스템 '은" 레지스트' (특정 한 형태 의 물질 에 내성 이 있는 물질) 를 무늬 의 광선 에 노출 시킴 으로써 작동 한다. 그 다음 에 "레지스트 '를 적절 한 용제 로 개발 하여" 레지스트' 의 노출 된 부분 을 제거 한다. 그러면 저항의 나머지 노출 된 영역은 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 제작에서 원하는 패턴을 정의하는 데 사용됩니다. TEL Lithius는 여러 가지 구성 요소로 구성됩니다. 1) Resist Chamber: 레지스트가 빛에 노출되어 장치의 가장 중요한 부분입니다. 저항실 내부에는 진공 펌프 및 응축기 렌즈가 있으며, 이는 저항의 두께를 30 ~ 40% 줄이는 데 도움이됩니다. 이는 석판화 과정의 효율성과 정확성을 높이는 데 도움이됩니다. 2) 마스크 정렬자 (Mask Aligner): 이것은 노출 프로세스의 스텐실 역할을하는 마스크를 제어하는 데 사용됩니다. 마스크 정렬자 (Mask Aligner) 를 사용하면 마스크를 저항과 정확하게 정렬할 수 있으며, 원하는 패턴이 달성되도록 도와줍니다. 3) Diffuser/Beam Shaping optics: 이 구성 요소는 빛의 빔을 레지스트 챔버로 보내기 전에 형성하는 데 도움이됩니다. "빔 '을 정확 하게 형성 함 으로써 더 높은 해상도 의" 패턴' 을 만드는 데 도움 이 될 수 있다. 4) 파형 생성기: 이 컴포넌트는 레지스트 챔버의 광학 설정을 제어합니다. 파형 (waveform), 주파수 (frequency), 펄스 너비 (pulse width) 등 저항이 노출될 매개변수를 프로그래밍하는 데 사용됩니다. 5) 패턴 생성기 (Pattern Generator): 이 컴포넌트는 저항에서 원하는 패턴을 생성하는 데 사용될 패턴을 생성합니다. 6) 시스템 모니터링 (Monitoring Machine): 이 컴포넌트는 공구의 모든 컴포넌트가 올바르게 작동하는지, 저항실 (resist chamber) 내부의 조건이 고품질 패턴을 생성하는 데 최적인지 확인합니다. TOKYO ELECTRON Lithius는 정확한 광학 석판 공정을 달성하기위한 고급적이고 신뢰할 수있는 자산입니다. 반도체 제작, 의료 기기 및 기타 첨단 부품 생산에 광범위하게 사용됩니다. 이 모델은 쉽게 사용할 수 있도록 설계되었으며, 사용자는 신뢰할 수 있는 결과와 뛰어난 해상도를 제공합니다.