판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9362296

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 집적 회로 (IC), 박막 트랜지스터 (TFT) 및 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 개발에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 photolithography, etching 및 coating 기술의 조합을 사용하여 실리콘 웨이퍼에 복잡한 패턴을 만들고, 이어서 복잡한 IC, TFT 및 MEMS 장치를 생성하는 데 사용됩니다. TEL Lithius 장치는 마스킹되지 않은 웨이퍼로 시작하여 photoresist가 적용됩니다. Photoresist는 웨이퍼에 석판 패턴을 만드는 데 사용되는 빛에 민감한 재료입니다. 그런 다음 마스크 없는 프로젝터 (maskless projector) 나 접촉 인쇄 도구 (contact printing tool) 와 같은 광원을 사용하여 웨이퍼의 영역을 광원 패턴이나 이미지에 노출시킵니다. 노출이 완료된 후, 노출 후 베이크 (post-exposure bake) 에서 웨이퍼를 가열하여 포토 esist의 노출 된 영역을 강화합니다. 그런 다음 포토 esist의 노출되지 않은 부분은 화학 물질 또는 물 개발자를 사용하여 제거됩니다. 이것은 추가 처리에 사용될 수있는 노출 된 포토 esist 패턴을 남긴다. 다음 단계는 에칭 (etching) 이며, 노출 된 패턴은 플라즈마, 이온 밀, 반응성 이온 에처 (RIE) 또는 기타 기술을 사용하여 기본 기판으로 전달됩니다. 이 "에칭 '단계 는" 웨이퍼' 에서 불순물 과 무늬 가 있는 광사제 를 제거 하여 기판 에 조그마 한 특징 을 만든다. 마지막으로, 패턴 화 된 웨이퍼는 물리적 증기 증착 (PVD) 또는 화학 증착 (CVD) 을 사용하여 금속이나 다른 물질의 얇은 필름으로 코팅됩니다. 이 층은 기본 웨이퍼를 보호하면서 전기 전도성 (electrical conductivity) 이나 유연성 (capability to flex) 과 같은 전기 또는 기계적 특성을 장치에 추가합니다. TOKYO ELECTRON Lithius 기계는 높은 정밀도로 웨이퍼에 복잡한 패턴을 만들 수있는 기능으로 인해 현대 IC, TFT 및 MEMS 생산에 중요한 도구입니다. 사용 가능한 마스크, 광원 및 화학 에찬트 (etchant) 를 사용하면 공구가 나노 미터 레벨 해상도에 도달하는 기능 크기의 매우 정확한 3D 구조를 생성 할 수 있습니다. 이 자산은 차세대 전자제품과 마이크로시스템 (microsystem) 을 만드는 데 필수적인 도구 중 하나입니다.