판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9260375

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 반도체 장치 제조에 사용하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 2 챔버 습식 벤치 형식을 사용하며, 예비 치료를위한 챔버 1 개와 개발자를위한 2 차 챔버가 있습니다. 전처리 챔버는 산과 염기 처리의 조합과 p- 타입 또는 n- 타입 도핑으로 기질을 처리 할 수있다. 개발자 챔버 (developer chamber) 에는 포토레지스트 (photoresist) 솔루션이 포함되어 있어 정확한 두께와 프로파일을 사용하여 photoresist 레이어를 기판에 적용할 수 있습니다. Photomask (Photomask) 는 마스크 프로파일과 적용된 photoresist 레이어의 두께와 프로파일을 결정하는 광원의 강도 (intensity) 와 함께 photoresist 레이어를 패턴화하는 데 사용됩니다. 이 장치에는 장비 컨트롤러 (equipment controller) 가 포함되어 있으며, 다양한 솔루션의 온도 및 흐름 속도와 광원 (light source), 기판 (substrate) 및 포토 마스크 (photomask) 의 매개변수를 모니터링합니다. 이렇게 하면 프로세스의 각 단계를 정확하게 제어할 수 있으며, 이를 통해 반복 가능하고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 컴퓨터에는 GUI (Graphical User Interface) 도 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자는 해당 응용 프로그램의 공구 매개변수와 레시피를 보고 선택할 수 있습니다. 또한, 에셋을 사용하면 나중에 사용할 수 있도록 레시피 및 프로세스 매개변수를 저장할 수 있습니다. 이는 특정 레시피 (recipe) 또는 프로세스 매개변수 (process parameter) 가 변경되어야 하는 경우에도 일관된 프로세스를 보장합니다. 이 모델에는 자동 초점 기능 (autofocus feature) 이 있으며, 포커스의 적절한 깊이가 포토리스 코팅 과정에서 달성됩니다. 이 기능은 잘못된 포커스로 인해 서피스 이미지 왜곡을 방지합니다. TEL 리티 우스 (TEL Lithius) 는 매우 정확한 포토 esist 장비로, 높은 정확도와 고품질의 반도체 장치를 제작할 수 있습니다. 이 시스템의 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 강력한 프로시저 매개변수 (procedure parameter) 를 통해 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있어 효율적이고 신뢰할 수 있습니다.