판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9105628

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment는 정밀 리소그래피 응용 분야를 위해 특별히 설계된 고급 석판 처리 기술입니다. 이 시스템은 자외선 (UV) 광원을 사용하여 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 패턴을 만들고 장치 제조의 기초로 사용됩니다. 이 장치의 주요 구성 요소에는 특수 포토 esist 재료, 마스크 또는 아트 워크, 통합 정밀 광학 및 조명기 (illumination machine) 가 포함됩니다. 이 도구의 모든 구성 요소는 고정밀 석판 처리에 맞게 설계, 최적화되었습니다. 감광 중합체 (photoresist material) 는 실리콘 웨이퍼에 복잡한 패턴을 만들 수있는 감광 중합체이다. TEL Lithius Photoresist Asset에 사용되는 photoresist는 고해상도, 교차 연결 광중합체이며, 이는 UV 빛에 매우 민감합니다. 이 포토 esist는 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 스핀 코팅되고 노출 전에 높은 정밀 정렬 연산을 받는다. 내장형 정밀 광학 모델을 사용하여 아트웍이나 마스크 패턴을 포토레지스트에 투영합니다. 이 아트웍은 UV 조명으로 만든 패턴이 장치 제조업체에서 지정한 공차 (tolerances) 내에 있도록 정확하게 정렬됩니다. TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment는 조명을 위해 발광 다이오드 (LED) 어레이를 사용합니다. LED 조명 어레이는 보다 안정적이고, 효율적이며, 일반적으로 마이크로 일렉트로닉스 제조에 사용되는 다른 광원에 비해 스펙트럼 범위가 넓습니다. LED (LED) 는 광자 코팅 실리콘 웨이퍼에 정확하게 지시되는 밝고 균일 한 광선을 생성합니다. 일단 노출되면, 포토 esist 코팅 된 웨이퍼는 개발 및 베이킹과 같은 일련의 화학 공정을 받는다. 개발 과정에서 포토 esist는 패턴화되지 않은 웨이퍼 (wafer) 영역에서 선택적으로 제거되어 패턴 (patterned) 영역 뒤에 남습니다. 베이킹 프로세스 (Baking process) 는 나머지 포토 esist를 더 가로질러 패턴화 된 영역의 궁극적 인 경도 및 전기 절연을 보장합니다. Lithius Photoresist System은 고품질 집적 회로 생산을위한 정밀 리소그래피 솔루션을 제공합니다. 고해상도 광폴리머, 정밀 광학 및 LED 조명 어레이를 사용하여 일관된 기능 확장 처리 및 장치 제조가 가능합니다. 또한, 공차가 최소인 복잡한 패턴 (pattern) 을 생성하는 기능은 오늘날 매우 복잡한 전자 장치 제조에 이상적인 도구입니다.