판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9032288

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 반도체 산업의 photolithography 프로세스에 사용되는 photoresist 장비입니다. 포토리토그래피 (Photolithography) 는 빛에 민감한 화학 물질을 사용하여 설계 패턴을 기판으로 옮기는 데 사용되는 인쇄 기술입니다. photoresist 시스템은 광원, 디자인 패턴을 포함하는 photomask 및 photoresist 물질로 구성됩니다. 광원은 일반적으로 UV 레이저 또는 수은 아크 램프입니다. 포토 마스크 (photomask) 는 디자인 패턴, 구멍 또는 홈이 에칭 된 유리, 금속 또는 플라스틱 조각입니다. photoresist는 기판 위에 적용되는 빛에 민감한 물질입니다. 빛 에 노출 되면, 광물질 이 활성화 되고, 그 로 인해 기질 과 화학 반응 을 하여, "패턴 '을 표면 에 에칭 한다. TEL Lithius 장치는 photolithography 프로세스의 정확성을 향상시키기 위해 설계되었습니다. 전극 측정 시스템 및 레이저 탐지 시스템 (laser detection system) 을 사용하여 photomask 및 photoresist 시스템의 정확도를 향상시킵니다. 여러 전극 을 사용 하면, 기계 가 "포토레지스트 '물질 의 모든 변형 과 입자 를 탐지 하여" 포토레지스트' 무늬 의 정확성 을 보장 할 수 있다. 또한, 정밀 레이저 탐지 도구 (precision laser detection tool) 는 동시 관측 정밀도를 사용하며 프로세스 중 오정 정렬 및 동작 오류를 자동으로 조정합니다. 도쿄 전자 리티 우스 (TOKYO ELECTRON Lithius) 자산은 또한 회로 특징 크기가 기존의 포토 리토 그래피 프로세스를 통해 달성 할 수있는 것보다 작도록 설계되었습니다. 이것은 정밀 레이저 감지 모델 (precision laser detection model) 과 장비에 사용 가능한 마이크로 프로세싱 회로를 사용하여 수행됩니다. 정밀 레이저 탐지 시스템 (precision laser detection system) 은 포토마스크 (photomask) 와 포토레지스트 (photoresist) 의 크기, 모양 및 방향을 감지하는 데 사용되므로 기판에 매우 작은 피쳐를 생성할 수 있습니다. 또한 "마이크로프로세싱 '회로 를 통해 광전도 공정 을 자동화 할 수 있으며, 이 로 인하여" 라인' 폭 과 같은 출력 "파라미터 '를 제어 하고 조정 할 수 있다. 전반적으로, Lithius 장치는 매우 정확하고, 자동화되어 있으며, 크기가 작은 회로 기능을 만들 수 있습니다. 이것은 반도체 산업에서 사용하기에 적합하며, 효율적이고 신뢰할 수있는 photolithography 프로세스를 제공합니다.