판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293821715

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 TEL Ltd에서 개발 한 포토 esist 장비입니다. 집적 회로 (IC) 생산에 사용되는 (TOKYO ELECTRON). 이 시스템은 고해상도 노출 장비, 고속 정밀 개발 탱크, 표면 처리 장비, 리소그래피 소프트웨어 등 여러 구성 요소로 구성되어 있습니다. photolithography 프로세스가 시작될 때 "photoresist" 가 반도체 웨이퍼에 적용됩니다. 광전자 (photoresist) 는 사용되는 광전자 (photoresist) 의 종류에 따라 자외선 또는 기타 방사선에 민감한 광감수성 물질이다. TEL Lithius 장치와 함께 사용되는 높은 정확도 노출 장비는 포토 esist를 정확하게 빛에 노출시킵니다. 이 장비는 매우 안정적인 진공 봉인 프로세스 환경 (vacuum-seal process environment) 으로 구성되어 있으며, 특수한 램프 광원이 균일 한 온도로 유지되어 노출의 정확성과 신뢰성을 보장합니다. 이 기계는 또한 고속 정밀 개발 탱크 (High-Speed Precision Development Tank) 를 포함하고 있으며, 이는 포토 esist 개발에서 최고 수준의 정밀도를 제공합니다. 정밀 개발 "탱크 '는 매우 정확 한 기판 위치 조정 도구 를 갖추고 있어서" 웨이퍼' 를 정확 하게 정렬 할 수 있다. photoresist 개발 외에도 TOKYO ELECTRON Lithius 자산에는 표면 처리 모듈도 포함되어 있습니다. 이 모듈은 황삭, 습식 클리닝 및 퇴화 (degreasing), 건식 플라즈마 에칭 (plasma etching) 에 사용되며, 모두 원하는 포토 esist 층의 형성에 필요합니다. 다른 기존 시스템과 비교할 때, 리티우스 (Lithius) 모델은 최고 수준의 정확도를 제공할뿐만 아니라, photolithography 프로세스의 프로세스 시간을 줄입니다. 이를 통해 반도체 기업은 IC를 이전보다 빠르고 저렴하게 생산할 수 있습니다. 요약하면, TEL/TOKYO ELECTRON Lithius 장비는 TEL/TOKYO ELECTRON Ltd가 개발 한 종합 사진 분석 시스템입니다. IC 생산을위한 (TEL). 이 장치는 고해상도 노출 장비, 고속 정밀 개발 탱크, 표면 처리 장비, 리소그래피 소프트웨어 등 다양한 구성 요소로 구성되어 있습니다. 이 기계는 정확도와 속도가 높아 IC (IC) 의 생산이 예전보다 저렴하고 빠르게 이루어집니다.