판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293766618

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 반도체 제조 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 고급 시스템은 정밀 석판화 및 기타 중요한 프로세스를 통합하여 집적 회로 (IC), 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 및 나노 기술 장치의 생산에 사용되는 고해상도 패턴화를 가능하게합니다. TEL Lithius 장치는 세계 반도체 산업의 혁신적인 솔루션으로 유명한 반도체 장비 제조업체 인 TEL (TOKYO ELECTRON Limited) 이 개발했습니다. 도쿄 전자 리티 우스 (TOKYO ELECTRON Lithius) 기계의 핵심에는 포토리스 스트 프로세스 (photoresist process) 가 있는데, 이는 패턴을 반도체 기질로 전달하는 데 사용되는 주요 기술입니다. 광감광 물질 은 감광 물질 로서, 빛 에 노출 될 때 화학적 변화 를 겪으며, "에칭 '과정 중 에 물질 을 선택적 으로 제거 할 수 있다. 리티우스 (Lithius) 도구는 고해상도 패턴화 (patterning) 기능을 제공하여 고급 반도체 장치 생산에 필수적인 서브미크론 기능으로 복잡한 패턴을 만들 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Lithius 자산은 최첨단 기술을 사용하여 반도체 웨이퍼에 정확하고 균일 한 포토 esist 코팅을 달성합니다. 고급 분배 장치 (Dispensing Mechanism) 와 코팅 (coating) 기술을 사용하여 웨이퍼 표면에서 최적의 레이어 두께와 균일성을 보장합니다. 이 균일성 (unifority) 은 일관된 패턴 전송을 달성하고 제작된 반도체 장치의 기능과 성능을 보장하는 데 매우 중요합니다. 정확한 코팅 외에도 TEL Lithius 모델은 고해상도 패턴화를 위한 고급 노출 기능을 제공합니다. 이 장비는 고급 광원, 프로젝션 광학 및 스테이지 컨트롤 메커니즘을 특징으로하여 포토레스 (photoresist) 코팅 된 웨이퍼에 패턴을 정확하게 투영 할 수 있습니다. 이러한 노출 기능은 차세대 반도체 디바이스에 필요한 고급 기능 (Fine Features) 과 견고한 설계 공차 (Tight Design Tolerance) 를 달성하는 데 필수적입니다. 또한, TOKYO ELECTRON Lithius 시스템에는 패턴화 프로세스의 품질과 반복성을 보장하기 위해 정교한 프로세스 제어 및 모니터링 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 노출 용량, 초점, 정렬 등 중요한 매개변수에 대한 실시간 모니터링이 통합되어 프로세스 성능 및 수익률을 최적화할 수 있습니다 (영문). 이 장치에는 패턴 충실도 (pattern fidelity) 를 특성화하고 엄격한 품질 요구 사항을 충족시키기 위해 임계 치수를 측정하는 고급 도량형 도구도 포함되어 있습니다. 리티 우스 머신 (Lithius machine) 은 양성 및 음성 저항을 포함한 다양한 포토 esist 유형을 지원하고 특정 패턴 적용을위한 특수 화학적으로 증폭 된 저항을 지원하도록 설계되었습니다. 이 툴은 다양한 디바이스 요구 사항과 구성 프로세스 (fabrication process) 를 수용할 수 있도록 프로세스 최적화, 레시피 개발 등의 유연성을 제공합니다. 전반적으로 TEL/TOKYO ELECTRON Lithius 자산은 반도체 제조를위한 포토 esist 시스템의 중요한 기술 발전을 나타냅니다. 정확한 코팅, 고해상도 (High-Resolution) 패턴화 기능, 고급 노출 기능, 견고한 프로세스 제어 기능을 통해 차세대 반도체 장치 생산과 고급 기능, 성능을 구현할 수 있습니다. 반도체 기술이 계속 발전함에 따라, TEL 리티우스 (Lithius) 모델은 혁신의 최전선에 머물러 있으며, 업계의 더 작은 기능 크기와 더 높은 장치 밀도로의 전환을 지원합니다.