판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293766146

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 집적 회로 제조 공정에 사용하도록 설계된 고정밀 포토 esist 장비입니다. 최첨단 포토레시스트 (photoresist) 소재를 수용할 수 있을 뿐 아니라, 신뢰성 있고 반복 가능한 결과를 낼 수있는 다양한 기능이 있습니다. 이 시스템에는 LCT (Lithium Chloride plating Tank) 와 PRT (Photoresist-on-Substrate Tank) 의 두 가지 유형의 챔버와 다른 지원 챔버가 있습니다. LCT 는 염화 "리튬 '의" 코오팅' 을 "웨이퍼 '에 적용 하는 데 사용 되고, PRT 는" 포토레지스트' 를 적용 하고 층 을 개발 하는 데 사용 된다. 이것 은 일련 의 정확 하게 계획 된 빛 과 화학적 이동 을 사용 하여 "레이어 '를 고르게 적용 하고, 정확 한 두께 와" 패턴' 의 요구 조건 을 충족 시킨다. Photoresist 코팅은 마스킹, deep-UV 또는 레이저와 같은 다양한 노출 방법을 사용하여 개발됩니다. 이러한 방법을 사용하면 레이어의 두께와 패턴을 정확하게 제어할 수 있습니다. 즉, 매우 복잡하고 사용자 정의된 설계를 만들 수 있습니다. 이 장치에는 PRT 및 LCT 탱크와 웨이퍼 (wafer) 를 쉽게 정렬할 수 있는 정렬 장치 (Alignment Machine) 가 있어 포토레지스트가 올바른 위치에 적용되도록 합니다. 그 에 더하여, 여러 가지 다른 냉각 장치 가 포함 되어 있는데, 이것 은 "포토레지스트 '가 노출 혹은 개발 과정 중 에 너무 뜨겁지 않게 하는 데 도움 이 된다. 마지막으로, TEL Lithius 는 여러 가지 자동화된 기능을 갖추고 있어, 보다 뛰어난 일관성과 생산성을 제공합니다. 여기에는 자동 웨이퍼 처리, photoresist 응용 프로그램, 코팅 두께 제어 및 정렬이 포함됩니다. 이를 통해 각 웨이퍼에 동일한 수준의 정밀도가 부여되어, 오류 발생 위험을 줄이고, 반복 가능한 성능을 확보할 수 있습니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON Lithius는 매우 유능하고 신뢰할 수있는 포토 esist 도구입니다. 자동 처리 (automated handling), 정밀 정렬 (Precise Alignment), 고급 노출 및 개발 (Advanced Exposure and Development) 등의 기능은 가장 까다로운 제조 프로세스에 적합한 복잡하고 세부적인 포토레시스트 레이어를 만드는 데 이상적입니다.