판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius Pro-I #293815848
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ID: 293815848
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2010
Coater / Developer system, 12"
(5) Front Opening Unified Pods (FOUP)
(7) PRA / CRA / IRAI / PRAI
2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Pro-I는 고급 석판 공정을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 제품은 50nm 이하의 기능 및 고급 노드 반도체 제조의 정확한 요구를 충족시키는 매우 정확한 포토레스 (photoresist) 프로파일링을 가능하게합니다. 이 시스템은 다양한 광학 특성을 가진 기판을 지원하기 위해 4x8 "표준, 초고해상도 (ultra-high resolution) 의 높은 처리량, 다양한 고급 광학 포토레시스트 (photoresist) 및 여러 파장 이미징 옵션을 갖추고 있습니다. Pro-I 장치는 선도적인 파운드리의 요구를 충족시키기 위해 다양한 프로세스 기능, 고급 이미징 (imaging) 기술을 제공합니다. 초고선형성, 동적 동작 및 정렬 교정, 탁월한 비균일성, 동적 초점 조정, 사전 교정 없이 정확한 오버레이 기능이 있습니다. 또한 플렉시블 트랙 (Flexible Track) 을 통한 자동 기판 처리를 지원하며, 여러 레이어를 가진 포토리스 연주자 (photoresist) 및 기타 재료를 처리 할 수 있습니다. 고급 간섭법 (interferometry) 기능을 사용하면 최고 수준의 정확도를 유지하면서 마스크를 기판에 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한, 내장 수차 수정은 개별 맞춤형 보상자 수집을 통해 프로파일 정확성과 고해상도 이미징을 보장합니다. Pro-I에는 다양한 소프트웨어 및 하드웨어 옵션도 있습니다. 자동화 기능, 소프트웨어 모델, 사용자 인터페이스 (User Interface) 를 통해 사용자는 필요에 맞게 도구를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 0.3 미크론 크기 한계를 초과하는 기능 인쇄를 가능하게하기위한 고용량 OAD (high dose OAD), 세부 마이크로 머신을위한 전자 빔 리소그래피 (electron beam lithography) 와 같은 고급 기술을 지원합니다. 또한 Pro-I는 Aligner Series와 같은 다른 TEL 프로세스와 통합되어 원활한 설치 및 편리한 기계 작동을 용이하게합니다. 통합 이미지 분석 및 자동 노출 (Auto Exposure) 을 통해 처리 전후에 포토마스크를 정확하게 식별하고 전송할 수 있습니다. 또한 자동화된 워크플로우를 위한 강력한 python 실행 환경과 후처리 소프트웨어를 갖추고 있습니다. TEL Lithius Pro-I는 고급 요구 사항을 갖춘 반도체 제조업체에 이상적인 솔루션입니다. 다양한 사용자 정의 가능한 자동화 및 소프트웨어 도구를 제공하면서, 정확도가 높은 복잡한 포토레시스트 (photoresist) 프로세스를 지원합니다.
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