판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Interface for Clean Track Mark 8 #9409937

TEL/TOKYO ELECTRON Interface for Clean Track Mark 8은 photoresist 처리 장비로, 전통적인 에칭 또는 제작 기술로 인해 손상되지 않고 기판에 복잡한 패턴을 만들 수 있도록 설계되었습니다. 이 "시스템 '은 광원 에 얇은" 포토레지스트' 물질 층 을 노출 시켜서 작용 하며, 그 위 에 "포토레지스트 '물질 의 수송 을 조절 하는 데 전자 를 사용 하여" 패턴' 을 정확 하게 형성 하고 형성 할 수 있게 한다. 이 장치는 여러 가지 구성 요소로 구성됩니다. 이러한 구성 요소에는 레이저 빔을 생성하는 일련의 고출력 광학 장치 (고출력 광학 제품) 와 '노출 (Exposure) 패턴' 을 생성하도록 설계된 XY 스캔 헤드 (Scan Head) 가 포함되어 있습니다. 또한, 기계 에는 "센서 '로 된 도구 가 들어 있는데, 이" 센서' 는 광소시스트 '재료 의 위치 와 각도 를 검출 하여 높은 수준 의 정확도 와 반복성 을 가진 "패턴' 을 만들 수 있다. 이 인터페이스에는 또한 사용자가 노출 시간 (Exposure Time) 및 레이어 두께 (Layer thickness) 와 같은 매개변수를 설정할 수 있는 소프트웨어가 포함되어 있어 포토리스트 (photoresist) 가 최상의 해상도로 노출되도록 할 수 있습니다. 또한 사용자는 노출 시간 (Exposure Time), 노출 각도 (Exposure Angle) 와 같은 매개변수를 빠르게 조정하여 맞춤도 조정 (Misalignment) 을 수정합니다. 또한 사용자는 이 소프트웨어를 통해 여러 레이어로 구성된 3D 패턴 (3D 패턴) 을 만들 수 있으며, 이는 매우 정확합니다. 이 모델의 주요 장점은 정밀도, 반복 가능성, 사용 속도입니다. 이를 통해 사용자는 정확한 해상도와 균일성을 통해 고품질 패턴을 만들 수 있습니다. 또한 다양한 노출 시간 설정 (Exposure Time Settings) 과 레이어 두께 (Layer Thickness) 를 통해 복잡한 패턴을 매우 정확하고 효율적으로 생성할 수 있습니다. 마지막으로 TEL Interface for Clean Track Mark 8은 포괄적인 안전 기능을 제공합니다. 여기에는 예기치 않은 변경 시 시스템을 종료하는 자동화된 비상 정지 (Emency Stop) 및 연동 장비 (Interlocking Equips) 와 노출 과정에서 운영자의 간섭을 방지하도록 설계된 EMF 모니터링 장치 (Monitoring Unit) 가 포함됩니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON Interface for Clean Track Mark 8은 매우 고급적이고 신뢰할 수있는 포토리스 시스트 처리 머신으로, 더 전통적인 방법에 비해 일부 시간에 뛰어난 반복성과 정확성으로 복잡하고 정확한 패턴을 만들 수 있도록 설계되었습니다.