판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Hot plates for ACT 12 #293650996

ACT 12 용 TEL/TOKYO ELECTRON 핫플레이트는 마이크로 전자 장치 제조를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 기판 성장, 노출, 개발을 위해 정확하고 통제 된 열 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 10 ~ 300ß C 범위의 고도로 반복 가능하고 정확한 온도를 생성 할 수 있습니다. 핫 플레이트는 열 전도성, 평평한 비 자기 베이스 플레이트, 추가 히터 플레이트, 온도 제어 장치 (TCU) 및 절연 된 기계식 압축 장치 (insulated mechanical compression unit) 로 구성되며, 히터 플레이트와 베이스 플레이트 사이에 압력 타이트 연결을 만듭니다. 열 판은 균등하게 분산 된 온도 프로파일을 가지며, 최적의 온도 제어 및 균일성을 위해 저열 질량 세라믹, 수지 및 기타 재료의 고급 조합으로 구성됩니다. "TCU '는" 핫플레이트' 의 온도 를 정확 하게 조절 하는 데 사용 되어, 목표 온도 에 신속 하고 정확 하게 도달 하고 유지 할 수 있다. 히터 플레이트는 마이크로 패치 열 플레이트 (micro-patch thermal plate) 와 기판을 포함하는 플랫폼이있는 펠티어 (Peltier) 유형의 난방 장치로 구성됩니다. ACT 12 용 TEL 핫 플레이트는 디지털 활동 컨트롤러를 사용하여 작동합니다. 작동 컨트롤러에는 온도 설정 지점, 냉각 타이밍, 온/오프 사이클, 냉각 지속 시간, 히터 미리 열 프로파일 등 시스템 작동을 제어하는 다양한 옵션이 있습니다. 또한 디지털 작업 컨트롤러 (Digital Activity Controller) 에는 도구가 정확하고 효율적으로 작동하도록 하는 고급 모니터링 기능도 포함되어 있습니다. ACT 12 자산 용 TOKYO ELECTRON 핫플레이트는 주변 환경에 대한 열 확산을 최소화하면서 정확하고 일관된 열 특성을 제공하도록 설계되었습니다. 또한이 모델은 개선 된 웨이퍼 투 웨이퍼 수율, 향상된 표면 평면, 개선 된 운영자 안전 및 환경 안정성을 제공합니다. 이 장비는 리소그래피, 증착, 임플란테이션, 에칭 및 주입 프로세스와 같은 프로세스에도 사용될 수 있습니다.