판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS800S #9383288

TEL/TOKYO ELECTRON CS800S Photoresist Equipment는 반도체 산업에서 높은 정밀도 나노 가공을 가능하게하기 위해 사용되는 최첨단 photolithography 솔루션입니다. 이 시스템은 고급 통합 광학 (Integrated Optics) 세트를 특징으로하며, 사용 가능한 다른 포토리토그래피 유닛보다 더 큰 해상도를 제공합니다. 해상도는 100nm까지 작을 수 있으며, 일반적인 해상도는 5-10 미크론입니다. 이 도구는 "스텝 앤 리피트 (step-and-repeat)" 방식을 통해 작동하며, 회전하는 드럼에 놓인 필름에 이미지화된 다음, 정확히 배치하여 단일 기판에 여러 이미지를 생성합니다. 자산의 광원은 UV 레이저 (UV Laser) 로, 다양한 통합 렌즈 (Integration Lense) 에 의해 매우 효율적인 방법으로 고해상도 패턴을 만듭니다. 향상된 해상도 외에도 TEL CS800S는 높은 처리량을 제공합니다. 이것은 고유 한 슬릿 스캐닝 접근 방식과 PAAA (Advanced Prevursor Treatment Technology) 를 통해 더 빠른 프로세스 시간을 가능하게합니다. 프로세스를 더욱 개선하기 위해 다양한 각도, 깊이 및 X-Y 좌표를 갖는 광학 도량형 (optical metrology) 모델에 의해 정확한 정렬이 활성화되어 패턴의 변화를 최소화합니다. 또한, 이 장비에는 프로세스 시간을 줄이기 위해 큰 조리개가있는 높은 전체 웨이퍼 노출 스테이션이 포함됩니다. 또한 이 스테이션은 포스트 프로세싱 (post-processing) 에 사용되어 최종 제품이 필요한 품질 지표를 충족하거나 초과하도록 합니다. 전체적으로, TOKYO ELECTRON CS-800S는 최고의 해상도, 높은 처리량, 향상된 생산 시간으로 nanofabrication을 만드는 데 사용될 수있는 최고의 photolithography 솔루션입니다. 이 시스템은 또한 고급 통합 렌즈, PAAA 기술, 정밀 정렬 도량형 (precision alignment metrology) 으로 사용자 정의가 가능하여 장치의 잠재력을 더욱 극대화합니다. 이러한 기능은 함께 진정한 혁신적인 사진 분석 솔루션을 만듭니다.