판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269767

TEL / TOKYO ELECTRON CS500
ID: 9269767
System HITACHI LE-4000A Mask cleaner Tank.
TEL/TOKYO ELECTRON CS500은 사진 해설에 사용되는 특수 사진 웨이퍼 저항 처리 도구입니다. 이 도구는 습식 (wet) 또는 건식 (dry) 개발 프로세스를 사용하여 저항 행동의 뛰어난 제어 및 식각 솔루션에 대한 저항을 달성합니다. TEL CS500 은 전용 제어 장비를 사용하여 습식 (wet) 또는 건식 (dry) 개발 솔루션의 볼륨, 온도 등 물리적 매개변수를 관리합니다. 이를 통해 저항 (resist) 개발 프로세스가 최적의 매개변수 내에서 수행되므로 고정되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 시스템에서 현재 설정을 정확하고 선명하게 표시하는 고해상도 LCD (고해상도 LCD) 화면을 사용자에게 제공합니다. 이 장치는 또한 다크 (dark) 및 라이트 (light) 필드 플레이트 세트를 자동으로 관리하여 웨이퍼 (wafer) 의 광 감지 영역이 적절한 노출을 받도록 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS 500은 분할 필드 호환성이 있으며, 이는 개발 과정에서 정렬 등록을 달성 할 수 있음을 의미합니다. 따라서 중요 저항 (critical resist) 패턴이 최고 표준으로 유지되도록 합니다. 이 기계는 또한 빠르고, 직관적이며, 정확한 프로그램 편집기를 가지고 있으며, 이를 통해 저항 개발을 구성할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 사용자 지정 "프로그램 '을 만들어 특정 목표와 요구 사항을 달성할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS500은 솔루션 목욕 수준을 목욕에서 +/- 0.1 mm의 정확도로 제어 할 수 있습니다. 이러 한 정도 의 정확성 은 저항층 전체 에 균일 한 얇음 을 보장 해 주며, "레지스트 '발달 을 더욱 정확 하게 제어 할 수 있게 해 준다. TEL CS 500에는 낮은 확장 주택이 포함되어 있어, 개발 과정 전반에 걸쳐 정확한 측정과 우수한 측정 정밀도를 제공할 수 있습니다. 이 도구는 또한 저항 두께 측정 프로세스 전용 모니터링 프로그램을 제공합니다. 이렇게 하면 에칭 프로세스 전에 레이어의 정확도가 두께 (thickness) 를 저항하도록 할 수 있습니다. 또한 "CS500 '은 개발 과정 중 에 생성 되는" 응축' 된 물방울 크기 를 조절 하는 데 사용 되는 증기 발전기 를 갖추고 있다. 이것은 웨이퍼 건조 결함을 최소화하고 균일 한 사진 저항 층을 보장하는 데 도움이됩니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500은 신뢰할 수 있고 강력한 포토레시스트 자산으로, 민감한 기판에 우수한 패턴을 만들 수 있습니다. 고급 제어 시스템 (Advanced Control Systems) 은 사용자가 강력한 개발 프로그램을 만들 수 있도록 편리한 기능을 제공하면서 정확성과 반복성을 보장합니다.
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