판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269722

TEL/TOKYO ELECTRON CS500은 반도체 산업에서 패턴, 에칭 및 저항 처리에 사용되는 포토 esist 시스템입니다. 이 시스템은 그래픽 작업 스테이션 (GWS) 과 중앙 처리 장치 (CPU) 의 두 부분을 통합합니다. GWS는 모든 그래픽 입력, 이미지 처리 및 출력을 담당합니다. 여기에는 마우스 (mouse) 와 사용자 인터페이스용 키보드 (keyboard for user interface) 와 작업 진행 상황을 볼 수 있는 디스플레이 화면이 포함됩니다. 반면, CPU는 모든 작업을 제어하고 조정합니다. 호스트 컴퓨터, 소프트웨어 및 주변 장비로 구성됩니다. TEL CS500은 photolithography, lamination, electrroplating, thermal curing 및 optical machining과 같은 광범위한 이미징 프로세스를 사용합니다. 핵심 기술은 일반적으로 deep-UV photolithography로 알려진 사진 기법의 수정 된 버전입니다. 이 기법 에는 자외선 의 밀접 한 집중 광선 을 사용 하여 표적 표면 에 정밀 한 "패턴 '을 만들기 위해 가공 된 광사자 를 폭로 하는 것 이 포함 된다." 뉴우요오크' 는 다음 과 같다. TEL CS500은 범용 저항에서 고해상도 감광제 (photoresist) 에 이르기까지 광범위한 저항 유형을 허용합니다. "레지스트 '재료 는 청정실 환경 에 배치 된 다음," 시스템' 의 "레이저 '에 의하여 노출 된다. 노출 후, 저항 (resist) 이 개발되어 대상 표면에서 정확하게 재현 될 수있는 분 (minute) 피쳐의 패턴이 생성됩니다. TOKYO ELECTRON CS 500은 3 차원 자동 초점, 프로그래밍 가능한 자동 노출, 프로그래밍 가능한 노출 램프 및 다중 패턴 정렬과 같은 여러 가지 고급 기능을 사용합니다. 또한 베이크 후, 개발 후, 응용 프로그램 후 및 에칭 후와 같은 다양한 노출 후 제어 모드를 제공합니다. 이렇게 하면 프로세스의 각 단계를 정확하고 정확하게 제어할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500은 반도체 산업에 효율적인 프로세스 제어 및 고품질 패턴을 제공하는 안정적이고, 사용자 친화적이며, 정확한 포토리스 시스템입니다. 정밀 에칭 (precision etching) 과 저항 처리 (resist processing) 에 적합한 정교한 기능과 첨단 기술로 업계에서 가장 널리 사용되는 포토레시스트 시스템 중 하나입니다.