판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269707

TEL/TOKYO ELECTRON CS500은 반도체 및 관련 산업의 장치 생산을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 노출 조사 및 에칭 기술을 사용하여 박막 포토 esist 레이어를 정확하게 처리하도록 설계되었습니다. 이 포괄적 인 시스템은 다양한 유형의 박막 포토레지스트 레이어를 효율적이고 정확하게 처리 할 수 있습니다. TEL CS500은 장치 생산의 사용자를 지원하도록 설계되었으며, 매우 얇은 포토레지스트 레이어를 처리 할 때 높은 정확도를 제공합니다. 최신 사진 촬영 장비 (photolithography equipment) 를 장착하여 정확한 노출 및 정확한 레이어 두께 제어를 지원합니다. UV-VIS-IR의 노출 소스를 사용하여 사용자는 65nm에서 5äm 두께의 photoresist 레이어를 처리 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS 500은 고정밀 노출 단계를 특징으로하여 작은 기판에서 더 많은 정확도를 제공합니다. 또한 대기 건조 및 습식 에치 (etch) 시스템을 제어했으며, 에칭 프로세스를 정확하게 제어하고 모니터링 할 수 있습니다. 온도 와 압력 수준 은 조정 할 수 있으며, 그 단위 는 광저항 층 (photoresist layer) 을 오염 으로부터 보호 하도록 설계 되었다. CS 500 은 자동화된 포토 저항 (Photo Resist) 처리 지원 소프트웨어와 함께 제공되며, 사용자가 효율적이고 정확한 사진 해설을 제공할 수 있도록 설계되었습니다. 이 소프트웨어를 사용하면 photomask 프로세스의 변수를 쉽게 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS500 기계는 웨이퍼의 위치를 추적하고 정확성과 반복성을 위해 데이터를 기록하는 웨이퍼 ID (wafer ID) 기술을 갖추고 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS 500은 장치 생산을위한 정확하고 정확한 프로세스를 제공하도록 설계된 고급 포토 esist 도구입니다. 고도의 정밀 노출 단계, 대기 건조 및 습식 에치 에셋 (etch asset) 및 최적화된 사진 석판 촬영을위한 자동 사진 저항 처리 지원 소프트웨어가 특징입니다. 정확한 추적 및 데이터 기록을 위한 웨이퍼 ID 기술도 포함되어 있습니다. TEL CS 500 은 고급 디바이스 생산의 과제를 해결하는 이상적인 모델입니다.