판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS500 #9269647

TEL/TOKYO ELECTRON CS500 Photoresist Equipment는 집적 회로 생산을 위해 설계된 고급 사진 분석 시스템입니다. 이 장치 는 완전 히 자동화 된 "포토리스토그래피 '기계 로서, 최신 석판화 기술 을 이용 하여 전례 없는 수준 의 정확도 와 속도 로" 칩' 을 생산 할 수 있게 해 준다. TEL CS500은 최대 24 개의 사진 마스크로 저항 필름을 노출하고 개발할 수 있습니다. 시간당 최대 6,500 개의 웨이퍼 (wafer) 를 처리할 수 있으며, 고객의 정확한 사진 학적 요구에 맞게 다양한 기능을 제공합니다. 여기에는 깊은 자외선 (DUV) 에서 X- 선 빛까지 광범위한 노출 파장이 포함됩니다. 또한 이 도구를 사용하면 레티클 제어 (reticle control) 및 웨이퍼 스테이지 정렬을 통해 노출의 정확성을 보장할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS 500에는 고급 AAS (Automatic Alignment Asset) 가 장착되어 있어 노출 과정에서 photoresist 레이어가 올바르게 배치되어 있는지 확인합니다. 이 모델은 부품 형태와 위치 데이터, X- 선 슬릿 정렬, 웨이퍼 스트레인 조정 (wafer strain adjuster) 을 모두 고려하여 적절한 크기의 저항층이 생성되었는지 확인합니다. 또한 AAS 는 용량율 (dose rate) 설정을 조정할 수 있으며, 이를 조정하여 지정된 두께 (thickness) 의 저항층 (resist layer) 을 생성할 수 있습니다. 또한, CS 500에는 생산 후 포토레지스트 (photoresist) 레이어의 결함을 감지하는 검사 장비가 내장되어 있습니다. 이 "시스템 '은 3" 마이크로 미터' 까지 결함 을 감지 할 수 있어서 결함 이 있는 모든 "필름 '을 신속 히 탐지 하고 수정 할 수 있다. photoresist가 균등하게 노출되고 개발되도록 TEL CS 500은 고급 CBA (Coherent Beam Array) 노출 장치를 사용합니다. 이 기계 는 "레이저 '광선 을" 레지스트' 층 에 투사 하여 광선 을 "레이어 '에 균등 하게 계량 한다. 도쿄 전자 CS500 (TOKYO ELECTRON CS500) 은 칩 생산에서 정확성과 처리량을 크게 높일 수있는 강력한 석판화 도구입니다. 고급 자동 정렬 (Auto Alignment) 과 검사 시스템 (Inspection System) 과 빔 어레이 (Beam Array) 노출 자산의 조합으로 현대 칩 생산 과정에서 없어서는 안될 도구가되었습니다.