판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9411469

TEL/TOKYO ELECTRON CS450은 반도체 산업을 위해 설계된 고급적이고 정교한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 패턴을 회로로 전달하기 위해 자외선을 사용합니다. 광저항 소재 (photoresist) 는 집적 회로에 강착 된 절연 층을 형성하는 데 사용되는 가벼운 민감화 소재이다. 이 단위는 제조 과정에서 정확한 패턴화 (patterning) 를 가능하게 할 뿐만 아니라, 이러한 패턴이 일관되고 신뢰할 수 있도록 합니다. TEL CS450 은 다양한 기능과 사양을 활용하여 집적 회로의 효과적이고 효율적인 패턴을 보장합니다. 여기에는 크고 넓은 노출 단계, 고해상도 프로젝션 노출 기계, 고급 광원이 포함됩니다. 또한 고해상도 매핑 모드, 웨이퍼 매핑 도구, 다이-투-다이 검사, 포토 esist 유형 지원 등 여러 가지 추가 기능을 제공합니다. 자산의 광원은 스펙트럼 방출이 다른 2 단계로 구성됩니다. 예를 들어, 노출 단계는 자외선을 사용하여 photoresist 코팅 된 웨이퍼를 노출시키는 반면, 매핑 모드는 회로 선 너비를 추적하기 위해 빛과 같은 낮은 에너지, 레이저-를 사용합니다. 따라서 패턴 정렬이 매우 정확하고 처리량이 높습니다. 또한, 이 모델을 사용하여 다양한 포토레지스트 (photoresist) 유형과 특성을 지원할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 애플리케이션의 요구에 맞게 프로세스를 세밀하게 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS 450 장비는 다용도가 높으며, 복잡하고 고급 어플리케이션에서도 정확하고 빠른 패턴화를 지원합니다. 포토리스 (photoresist) 유형과 프로세스 매개변수를 응용 프로그램에 맞게 조정할 수 있으므로 다양성을 제공합니다. 또한, 이 장치는 노출 과정이 빠르고 효율적이기 때문에 재료 및 인건비 (인건비) 를 절감하는 데 도움이 됩니다. 마지막으로, 자동 다이 검사 시스템 (Automated Die Inspection System) 이 포함되어 잘못된 노출 수준 또는 부적절한 노출 조건으로 인한 결함을 예방할 수 있습니다. 전반적으로, CS450 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 고도로 고급적이고 정교한 기계로, 반도체 응용 프로그램을 위해 회로를 성공적으로 제작하고 패턴 할 수 있습니다. 고해상도 (High-resolution) 기능을 제공하며, 대용량 노출 단계, 고해상도 투사 노출 도구 및 고급 광원을 갖추고 있습니다. 또한 다양한 포토레스 (photoresist) 유형과 프로세스 매개변수를 지원할 수 있으며, 자동화된 다이 검사 (die inspection) 자산을 포함하므로 생산 과정에서 결함의 위험이 크게 줄어듭니다.