판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269604

TEL/TOKYO ELECTRON CS450은 반도체 제조에 사용되는 리소그래피 마스크를 만들도록 설계된 기술적으로 고급 포토 esist 장비입니다. 시스템의 주요 목적은 회로 다이어그램 패턴을 극도의 정밀도로 포토 마스크 (photomask) 로 전송하는 것입니다. 이 장치에는 고해상도 투영 광학, 정확한 단계 및 동작 제어, 고효율적이고 깨끗한 프로세스 챔버, 정교한 폐쇄 루프 제어 알고리즘이 통합되어 있습니다. 이러한 기능을 통해 뛰어난 이미지-이미지 등록 정확도를 제공하여 나노-레벨 리소그래피 (nanometer-level lithography) 에 없어서는 안될 도구입니다. TEL CS450 기계에는 뛰어난 이미지 품질과 정확도를 제공하는 1600x1200 DPI 14 미크론 해상도의 라이트 엔진이 있습니다. 이 라이트 엔진은 +/-15um의 3 면 등록 정확도를 얻을 수있는 300mm 사각형 기판 X-Y 스태이징 도구와 연결됩니다. 이 정밀도를 사용하면 웨이퍼에서 패턴을 정확하게 이미징 할 수 있습니다. 또한, 이 자산은 최첨단 진공 모델을 특징으로하며, 가스 청결 제어 장치 및 이산화탄소 건조 펌핑 장비와 통합되어 있습니다. 이 진공 "시스템 '은 가공 중 에" 가스' 를 청결 하고 불활성 으로 유지 하는 것 만을 보장 하여, 수율 이 높은 성능 을 보장 한다. 또한, TOKYO ELECTRON CS 450 장치에는 매우 정밀한 작동을 보장하도록 설계된 다양한 정교한 제어 시스템 및 알고리즘이 포함되어 있습니다. 이러한 제어 시스템 중 하나는 고급 동작 제어 (advanced motion control) 로, 스테이지가 서브 미크론 정확도로 웨이퍼를 정확하게 배치 할 수 있습니다. 또한 빔 제어 (beam control) 및 노출 교정 (exposure calibration) 을위한 고급 알고리즘이 있으며, 이는 석판 마스크의 정확한 노출과 초점을 보장하는 데 도움이됩니다. 마지막으로, 이 시스템은 종합적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 갖추고 있어 운영 및 유지 보수에 편리한 환경을 제공합니다. CS 450 은 고도로 고급화된 포토레지스트 (photoresist) 툴로서, 극도의 정확성과 신뢰성으로 정확한 리토마스크 (lithomask) 를 만들 수 있습니다. 고해상도 라이트 엔진 (Light Engine), 고급 모션 컨트롤 에셋 (Motion Control Asset), 정교한 제어 알고리즘 (Control Algorithm) 및 종합적인 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 나노미터 수준의 리소그래피를위한 귀중한 도구이며, 이러한 기능을 통해 모든 반도체 제조 응용 프로그램에 이상적인 선택이 가능합니다.