판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269591

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment는 고급 석판 처리를 위해 강력하고 사용자에게 친숙한 저항 처리 시스템입니다. 일관성과 정확성을 위해 설계된 TEL CS450 은 차세대 반도체 기술에 대한 복잡한 패턴화 (patterning) 요구 사항을 처리할 수 있습니다. 이 장치는 단일 및 이중 노출 단계의 딥 UV (DUV) 및 익스트림 자외선 (EUV) 리소그래피와 같은 응용 프로그램을 지원합니다. TOKYO ELECTRON CS 450은 화학적으로 증폭 된 네거티브 톤 포토 esist와 작동하도록 설계되었습니다. 이 기계의 첨단 스핀 (spin) 기술은 프로세스 변동성을 최적화하고, 더 작은 패턴 설계에서도 탁월한 균일성과 생산성을 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS 450은 통합 기계 비전을 특징으로하여 결함을 자동으로 검사하고 식별할 수 있습니다. TEL CS 450에는 프로그래밍 가능한 프로세스 매개 변수 설정이 있습니다. 이를 통해 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 도구는 수동으로 또는 자동 모드로 작동할 수 있습니다. 자동 (automatic) 모드는 복잡한 저항 구조에서도 빠르고 재현 가능한 저항 처리에 사용될 수 있습니다. 자산은 또한 뛰어난 온도 조절을 제공합니다. 공정 온도는 5 ~ 80 ° C에서 정확하게 제어 할 수있는 반면, 기질 온도는 5 ~ 60 ° C 사이에서 유지 될 수 있습니다. 고속 열 조닝 (fast thermal zoning) 옵션도 사용할 수 있으며, 이는 소형 형상 웨이퍼를 처리하는 데 필요한 시간을 크게 줄일 수 있습니다. 이 모델에는 쉽고 직관적인 작업을 지원하는 대화형 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 가 포함되어 있습니다. 또한, 사용자가 사용자 정의 레시피를 만들고 TOKYO ELECTRON CS450 데이터베이스에 저장할 수있는 레시피 에디터를 사용할 수 있습니다. 사용자 프롬프트는 직관적이어서 작업을 보다 단순하고 편리하게 수행할 수 있습니다. 이 장비에는 프로세스 결과를 실시간으로 모니터링하는 내장형 고성능 레지스트 (Resist) 추적 시스템도 포함되어 있습니다. 이를 통해 연산자는 레지스트 (resist) 처리 프로세스의 다른 단계에서 발생할 수있는 모든 변형을 수정할 수 있습니다. 전반적으로 CS450 Photoresist Unit은 고급 석판 처리를 위해 강력하고 사용자 친화적 인 저항 처리 기계입니다. 고급 스핀 기술, 온도 조절 설정, 사용자 친화적 인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 및 실시간 저항 추적 툴은 탁월한 균일성과 프로세스 안정성을 제공합니다. 이 자산은 가장 까다로운 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있으며, 사용자에게 탁월한 정확성과 반복 (repeatability) 기능을 제공합니다.