판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380687

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 포토리스 스틱 (photoresist) 장비는 포토 리토 그래피 프로세스에 사용되는 고정밀도, 효율적인 시스템으로, 종종 집적 회로 생산에 사용됩니다. 이 장치는 웨이퍼 프로세싱 및 반도체 제조 작업에 탁월한 성능을 제공하여 뛰어난 해상도, 속도, 정확도를 제공합니다. 기계는 3 개의 주요 구성 요소로 구성됩니다. TEL CS-600 프로젝터는 스테퍼 모터 도구, 선형 피드백 장치, 밀폐된 환경 및 이미지 회전 에셋을 사용하여 정확한 투사 이미지 배치를 수행합니다. 이렇게 하면 저항 처리 단계에서 광 노출 (light exposure) 을 최적으로 정렬하고 배치할 수 있습니다. 모델의 나이프 모서리 정렬기는 선명도 (sharpness), 물결 길이 (wave length), 너비 (width), 높이 (height), 라이트 블로킹 (light blocking) 특성 등의 블레이드 모서리 특성을 측정하는 데 사용됩니다. 이를 통해 블레이드 에지 (edge) 정렬을 정확하게 수행할 수 있으므로 웨이퍼에 걸쳐 광원 노출이 정확하고 균등하게 완료됩니다. 마지막으로, TOKYO ELECTRON CS-600은 스핀 프로세서 (spin-processor) 를 특징으로하며, 웨이퍼를 회전시켜 포토 esist의 균일 한 분포를 향상시키고 포토 리토 그래피 충실도를 향상시킵니다. CS-600 장비를 사용하는 것은 간단합니다. 먼저, 연산자가 시스템에 웨이퍼를 로드하고 원하는 이미지 처리 알고리즘을 입력합니다. 그런 다음, 이 장치는 포토 리토 그래피 (photolithography) 프로세스를 수행하여 웨이퍼의 원하는 영역에 대한 광 노출을 정확하게 추진합니다. 결과는 일관된 기능 해상도, 반복 가능성 및 깊이를 가진 고정밀 석판 이미지입니다. 마지막으로, 기계는 웨이퍼를 정확하게 회전시켜, 최적의 이미지 충실도를 위해 photoresist의 균일 한 분포를 보장합니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 도구는 안정적이고 효율적인 포토리스 (photoresist) 자산으로, 집적 회로 제조 공정의 정확성과 내구성을 향상시키도록 설계되었습니다. 탁월한 성능과 안정성을 통해 웨이퍼 (wafer) 프로세싱 및 반도체 제조 작업에 이상적인 선택이 가능합니다.