판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380677

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600은 사진 분석 프로세스에 사용되는 포괄적 인 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 고급 저항 (Advanced Resist) 기술과 완전 자동화 된 기판 처리 장치를 결합하여 완벽한 저항 솔루션을 제공합니다. TEL CS-600 은 레지스트 모듈 (Resist Module), 비전 모듈 (Vision Module), 기판 정렬 모듈 (Substrate Alignment Module) 을 포함하여 다양한 애플리케이션에 이상적인 솔루션입니다. 저항 모듈은 다양한 유형의 저항 재료를 사용하도록 설계되었습니다. 저항 노즐, 반사 방지 코팅 (ARC) 노즐 및 스프레이 건조기가 장착되어 있습니다. "노즐 '은" 레지스트' 물질 의 적용 을 정확 하게 제어 할 수 있으며, 고도 의 정확도 로 균일 한 증착 을 보장 한다. 또한, 노즐에는 누출 탐지기 (leak detector) 가 장착되어 중요한 기판 표면의 저항 누출 및 오염을 방지합니다. "레지스트 '" 노즐' 의 조절 능력 은 다양 한 기판 에 "양수 '와" 네거티브' 저항제 의 증착 을 허용 한다. 시력 (vision) 모듈은 기판 좌표를 정확하게 인식하고 기판 단계에서 움직임을 추적하도록 설계되었습니다. 비전 모듈에는 고해상도 카메라 (camera) 가 있어 기판 기능을 정확하게 인식 할 수 있습니다. 이렇게 하면 응용 프로세스 동안 레지스트 노즐 (resist nozzle) 및 ARC 노즐 (ARC nozzle) 과 관련하여 기질의 정확한 방향을 지정할 수 있습니다. 또한, 비전 모듈은 허용 가능한 무결성 (acceptable integrity) 을 가진 기판 만 사용하도록 기판 결함을 자동으로 감지하고 저항 (resist) 모듈에 피드백을 제공 할 수 있습니다. 기판 정렬 모듈 (substrate alignment module) 은 기판 단계에 기판을 배치할 때마다 일관된 기판 배치를 보장합니다. 센서와 소프트웨어의 조합을 사용하여 ± 0.1mm 범위 내에서 기판을 정확하게 배치합니다. 이를 통해 저항 재료의 적용이 정확하게 수행됩니다. 또한, 이 모듈은 자동 특성 (automated nature) 으로 인해 하나의 배치로 많은 기판을 편리하게 설정할 수 있습니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON CS-600은 뛰어난 균일성과 생산성을 제공하는 뛰어난 포토 esist 기계입니다. 다재다능한 저항제 (Resist) 응용프로그램 옵션을 통해 다양한 기판을 유연하게 생산할 수 있으며, 포토리토그래피 (photolithography) 프로세스에 이상적인 솔루션이 됩니다. 또한 고급 이미징 (Advanced Imaging) 및 정렬 (Alignment) 기능을 통해 기판이 레지스트 (Resist) 애플리케이션 프로세스에 정확하게 배치되어 보다 뛰어난 재현성을 얻을 수 있습니다.