판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380658

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600은 박막 증착 응용 프로그램 처리를 위해 설계된 반자동 포토 esist 장비입니다. 로봇 웨이퍼 공정 장치, 프로그래밍 가능한 공기/진공 저수지 및 공정 챔버로 구성된 코트/펀치 시스템입니다. 이 단위는 정확성과 정확성으로 인해 미세 피치 석판 응용에 이상적입니다. TEL CS-600은 photoresist, silica, aluminum 및 titanium과 같은 두 박막 층을 단일 공정으로 증착 할 수 있습니다. 이 기계는 고속 패턴화가 가능하며 접촉 석판화 (contact lithography) 와 근접 사진 해설을 모두 쉽게 수용 할 수 있습니다. 또한 레이어 라인 스페이서 (layer line spacer) 형성이 가능하여 다양한 패턴 형상을 수용할 수있는 공구의 능력을 증가시킵니다. TOKYO ELECTRON CS-600은 photolithography, contact lithography 및 proximity lithography와 같은 반도체 및 사진 트로프 프로세스에 적합합니다. 웨이퍼 표면은 사진 민감성 물질의 정확한 균일 코팅 (coating) 에 노출 된 후 플래시 노출로 패턴화됩니다. CS-600은 10 미크론에서 24 미크론까지 픽셀 크기가 필요한 다양한 프로세스를 수용 할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON CS-600에는 웨이퍼를 빠르고 정확하게 조작하도록 프로그래밍 할 수있는 4 축 로봇 암이 장착되어 있습니다. 효율적인 스캐닝 (Scanning) 정확성으로 인해 저렴한 비용으로 빠른 패턴 전송 및 레이어 증가가 가능합니다. 이 에셋에는 조정 가능한 진공 챔버 (vacuum chamber) 가 내장되어 있으며, 이는 사진 감지 레이어의 레벨을 제어하여 연속적인 레이어의 완벽한 결합을 보장합니다. TEL CS-600에는 항상 모델 진공 수준의 정확성을 극대화하는 프로그래밍 가능한 공기/진공 저수지 (air/vacuum reservoir) 가 장착되어 있습니다. 공기/진공 저수지는 두께의 웨이퍼를 수용하도록 조정할 수 있습니다. 또한 도쿄 전자 CS-600 (TOKYO ELECTRON CS-600) 에는 게이트 밸브 (gate valve) 가 장착되어 저장소 내부의 포토 esist를 유지하고 산화를 방지합니다. CS-600 (CS-600) 은 박막 레이어의 대용량 생산을 처리하도록 설계된 매우 효율적이고 신뢰할 수있는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 정확하고 정확한 성능으로 인해 미세 피치 리소그래피 (fine-pitch lithography) 응용 프로그램을 처리하는 데 이상적인 선택입니다. 이 시스템의 자동 로봇 공학과 프로그래밍 가능한 공기/진공 저수지는 매우 사용자 친화적이며 우수한 결과를 제공합니다.