판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9379476
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TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 (TEL/TOKYO ELECTRON CS-600) 은 두 가지 주요 컴포넌트를 사용하여 완성 된 제품을 생성하기 위해 기판에 적절한 재료의 정확하게 패턴 화 된 층을 배치하는 포토 esist 장비입니다. 시스템의 두 가지 주요 구성 요소는 RIE (Reactive Ion Etching) 장치 및 엑시머 레이저입니다. RIE 기계는 에찬트 가스 (etchant gas) 를 사용하여 기판과 반응하여 패턴화 된 재료 레이어를 생성하거나 필요 시 필요 없는 재료 (unwanted material) 를 제거하거나 영역 (area) 을 선택하여 원하는 패턴을 생성합니다. 엑시머 레이저 (excimer laser) 는 자외선을 생성하는데, 자외선을 생성하여 기질을 추가로 변경하거나, 재료를 선택적으로 제거하는 데 사용될 수있다. TEL CS-600은 두꺼운 필름 photoresist, thin film photoresist 및 sub-micron photoresist와 같은 여러 photoresist 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 두꺼운 필름 포토레시스트 (Thick film photoresist) 는 하나의 공정에서 기판에 패턴을 생성하는 데 사용될 수있다. 박막 감광제는 균일성과 정확도가 높은 기질의 정밀 패턴화에 사용될 수있다. 서브 미크론 포토레지스트 (Sub-micron photoresist) 는 제작을 위해 극도의 정확성과 고해상도 이미지가 필요한 매우 훌륭한 기능이나 장치에 사용될 수 있습니다. TOKYO ELECTRON CS-600의 RIE 도구는 에칭 프로세스를 최대한 제어 할 수있는 반면, 엑시머 레이저 (excimer laser) 는 유기 및 무기 하드 재료를 포함한 모든 재료에 대한 빠른 패턴을 제공합니다. 제어 소프트웨어 (Control Software) 는 쉽게 액세스 및 사용할 수 있으며 광학 패키지 (회전 시야) 는 뛰어난 패턴화 성능을 제공합니다. CS-600 은 냉각 및 자가 청소 기능과 같은 고급 기능도 갖추고 있습니다. 텔/도쿄 전자 CS-600 (TEL/TOKYO ELECTRON CS-600) 은 photoresist 작업을 위해 안정적이고 효율적인 플랫폼을 제공하며 처리량 및 생산성 향상을 위해 설계되었습니다. 비용 효율적인 자산 (user friendly) 이므로 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 첨단 기능과 기술을 갖춘 TEL CS-600 은 포토레시스트 (photoresist) 작업을 위한 탁월한 성능을 제공하며 고객에게 적합한 선택입니다.
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