판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672270

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II Photoresist Equipment는 반도체 웨이퍼 처리 작업에 사용하도록 설계된 종합 사진 분석 시스템입니다. 이 장치에는 정밀 웨이퍼 (wafer) 패턴화 응용 프로그램을 사용할 수 있는 여러 고성능 컴포넌트가 있습니다. 기계 의 핵심부 에는 "웨이퍼 '에" 포토레지스트' 층 이 매우 정확 하게 노출 될 수 있는 다목적 이고 유능 한 조명기 가 있다. 광원 (Light Source) 과 복잡한 투영 에셋으로 제논 램프 (Xenon lamp) 를 사용하여 웨이퍼 (Wafer) 의 미세한 피쳐의 전체 해상도와 반복 가능한 웨이퍼 조명을 허용합니다. 투영 실린더 (Projection Cylinder) 및 릴레이 렌즈 (Relay Lense) 와 같은 추가 광학 구성 요소는 실제 반도체 처리에 필요한 높은 정밀도와 반복성을 제공합니다. 마크 II 포토레시스트 (Mark II Photoresist) 모델은 또한 장비의 다양한 컴포넌트 사이에서 웨이퍼의 정확하고 반복 가능한 이동에 최적화된 멀티 축 스테이지 어셈블리를 특징으로합니다. 스테이지는 3 축 제어를 구동하는 고정밀 DC 서보 모터에 의해 구동됩니다. 스테이지 (Stage) 의 견고한 구성과 로우 프로파일 (Low-Profile) 설계는 낮은 중력 중심을 가능하게하여 시스템의 공간을 작게 유지하면서 뛰어난 동작 및 동작 제어를 제공합니다. 모든 웨이퍼 (wafer) 에 대해 정확한 패턴을 균일 하게 만들 수 있도록 Mark II Photoresist 장치에는 정교한 교정 기계도 포함되어 있습니다. 이 교정 도구 (calibration tool) 는 에셋의 광학을 자동으로 정렬하고 포토레시스트의 노출이 웨이퍼를 가로 질러 균일하고 반복 가능하도록 합니다. 마크 II 포토레시스트 (Mark II Photoresist) 모델은 작동과 유지 관리가 용이하여 대용량 웨이퍼 처리 작업에 이상적인 솔루션입니다. 이 장비에는 여러 진단 도구 (Diagnostic Tools) 와 내장 보호 장치 (Built-In Safeguard) 가 포함되어 있어 다운타임을 최소화하고 시스템의 적절한 작동을 보장합니다. 또한, 이 장치에 대한 소프트웨어 업데이트 (software update) 도 제공되며, 사용자는 최신 기능을 위해 시스템을 최신 상태로 유지할 수 있습니다. 전반적으로 TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool은 반도체 웨이퍼 처리 응용 프로그램을위한 포괄적이고 사용하기 쉬운 솔루션입니다. 정밀 조명 에셋, 다중 축 스테이지 어셈블리 (Multi-Axis Stage Assembly), 고급 교정 모델 (Advanced Calibration Model) 은 최고 수준의 정확성과 반복 성을 제공하는 반면, 사용자 친화적 인 설계로 장비의 작동과 유지 보수가 용이합니다.