판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9314271

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8은 사용자에게 고정밀 증착 및 리프트 오프 기술을 제공하기 위해 설계된 고급형 포토 esist 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 고급 화학 및 광석기 공정을 사용하여 일관되게 고품질 결과를 보장합니다. 노심에서 TEL 클린 트랙 마크 8 (TEL Clean Track Mark 8) 은 공정 챔버 및 무게 단위로 구성되며, 이는 일반적으로 포토 esist로 알려진 화학 용액을 기판에 분배하는 데 사용됩니다. 이 포토레시스트는 빛에 민감하도록 설계되었으며, 특정 파장에 반응하여 사용자가 기판에 패턴을 선택적으로, 정확하게 에치 (etch) 할 수 있습니다. 프로세스 챔버에는 여러 조정 가능한 컴포넌트가 포함되어 있어 원하는 증착 및 리프트 오프 매개변수 (예: 화학 농도, 노출 시간, 베이킹 온도, 리프트 오프 시간) 를 선택할 수 있습니다. 일단 화학적 증착 이 끝나면, 광전물질 은 정해진 파장 의 "레이저 '광선 에 노출 되어 기질 의" 패턴' 을 에치 '할 수 있게 된다. 프로세스 챔버의 조정 가능한 매개변수 (adjustable parameters) 를 사용하면 에치의 깊이 (depth of the etch) 와 패턴의 적용 범위 (coverage area) 를 제어할 수 있습니다. 에칭 프로세스가 완료되면, 포토레시스트는 원하는 패턴을 드러내기 위해 리프트 오프 (lift-off) 프로세스에 의해 제거됩니다. 이 과정에는 모바일 플랫폼 (모바일 플랫폼) 을 사용해야 하는데, 이 플랫폼은 2 개의 캐리지 (기판 위에 위치) 와 공정 챔버 위에 위치 (위치) 를 포함하도록 설계되었습니다. 리프트 오프 (lift-off) 동안, 두 번째 캐리지는 포토 esist와 교전하여 기판에서 들어 올려 원하는 패턴을 아래에 표시합니다. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8은 조절 가능한 매개 변수 덕분에 높은 정밀도와 유연성을 제공합니다. 이 고급 포토레지스트 (photoresist) 머신을 사용하면 세부적인 패턴을 쉽게 생성할 수 있으며, 이를 통해 정밀 구조를 만드는 효율적인 수단을 제공합니다.