판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293821338

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8은 향상된 제작 프로세스를 위해 미세 조정 기판을 만들도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 레이저 (Laser) 기반 쓰기 메커니즘을 사용하여 재료를 이미지에 노출시켜 패턴 (patterned) 기판을 생성합니다. "레이저 '리소그래피 라고 불리우는 이 장치 는 매우 세밀 하고 정확 한 석판" 패턴' 을 만들기 위하여 여러 가지 감광 물질 을 결합 시킬 수 있게 해 준다. TEL 클린 트랙 마크 8 (Clean Track Mark 8) 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 레이저에 선택적으로 노출 된 저항 재료를 사용하여 고해상도 패턴을 모든 재료로 옮길 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 전체 기판에 걸쳐 매우 미세한 선폭 (linwidth), 수직 구조 레이어 높이 (vertical structural layer height) 및 높은 반복성을 갖춘 최소 피쳐 (feature) 크기의 석판화 패턴을 생성할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8은 또한 깊은 UV 레이저를 사용하여 기판의 노출 된 영역과 노출되지 않은 영역 사이의 최대 대비를 사용합니다. 이 깊은 "UV '의" 레이저' 를 이용 하여 이 기계 를 "플라스틱 '박막 이나 심지어 종 이 같은 유기물 에 사용 하여 최고 의 해상도 의" 이미지' 를 얻을 수 있다. 이 도구 의 해상도 는 다른 "포토레시스트 '계 보다 10 배 나 높아서 가장 복잡 한" 패턴' 을 생산 하는 데 이상적 인 선택 이다. 이 포토리스 (photoresist) 자산을 사용하여 사용자는 생의학 장치, 디스플레이, 광학 부품 및 반도체에 대한 고급 리소그래피 (advanced lithography) 와 같은 다양한 응용 프로그램에서 고정밀 장치 구조를 생성 할 수 있습니다. 이 모델은 나노 기술 및 광자 공학, 전자 공학 및 마이크로/나노 (micro/nanofabrication) 에 이르기까지 다양한 산업에서 사용됩니다. 클린 트랙 마크 8 (Clean Track Mark 8) 에는 실험실 환경에서 사용하기 적합한 여러 가지 안전 기능이 있습니다. 이 장비는 폐쇄 시스템 (closed-down system) 을 갖추고 있어 환경에 노출되어 과열되거나 손상되지 않습니다. 이 장치에는 소음 및 전력 누출을 줄이기 위해 설계된 에너지 절약 센서 (energy-saving sensor) 도 제공됩니다. 마지막으로, 기계는 먼지와 수분 내성을 갖도록 설계되어, 챔버 (chamber) 에 들어갈 수있는 오염 물질은 노출 과정을 방해하지 않습니다. 이 photoresist 도구는 미세한 고해상도 장치 구조를 생성하는 강력한 도구입니다. 종결 자산 (closed-down asset) 과 안전 (safety) 기능을 제공하고, 전례없는 해상도를 제공함으로써, 이 모델은 가장 복잡한 패턴을 작성해야 하는 기업에게 이상적인 선택입니다.