판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293635984

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8은 반도체 제작의 사진 다이어그래피 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 마크 8 (Mark 8) 시스템은 파퍼에 얇은 포토 esist 층을 적용하여 자외선에 노출시킨다. 이 자외선 에 노출 되면, 빛 이 노출 된 지점 에서 화학 반응 을 일으키며, 이것 은 "필름 '의 성질 을 변화 시킨다. 이 로 말미암아 광전자 는 빛 의 본 을 근거 로 "에치 '를 없애 버릴 수 있다. Mark 8 (Mark 8) 장치는 포토리스 시스트를 극도로 정확하게 노출시켜 0.4 미크론 피쳐 크기로 패턴을 만들 수 있습니다. 이것은 클린 트랙 (Clean Track) 시리즈의 이전 모델보다 두 배나 정확하며 상상할 수있는 최고 품질의 마이크로 트로닉 구성 요소를 생산하는 데 도움이됩니다. 이 기계는 독점적 인 CCD 카메라를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 찾기 위해 1 미크론 미만의 정확도로 웨이퍼를 정확히 찾습니다. 이 도구는 또한 RIE 에치 챔버 (etch chamber) 와 3 구역 퍼니스를 사용하여 포토 esist를 정확하게 적용하고 제거합니다. RIE 에치 챔버 (RIE etch chamber) 를 사용하면 주어진 응용 프로그램에 대한 포토 에칭 프로세스를 사용자 정의하기 위해 다양한 에칭 조건을 사용할 수 있습니다. 마크 8 (Mark 8) 자산은 가장 현대적이고 정교한 반도체 구성 요소를 처리 할 수있는 고급 포토 esist 모델입니다. 장비는 정확한 에칭 (etching) 과 정렬 (alignment) 을 제공할뿐만 아니라, 침출 파라미터의 특수 튜닝을 허용하여 응용 광도사 (photoresist) 와 노출 된 자외선 (exposed ultraviolet light) 사이의 완벽한 일치를 보장합니다. 마크 8 (Mark 8) 은 직관적이고 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 시중에서 가장 향상된 프로그래밍 기능을 제공합니다. 또한 웨이퍼 (Wafer) 용량의 실시간 업데이트 및 예측이 가능하므로 칩 배치를 추적할 수 있습니다. 또한, 시스템은 모든 칩에 대한 성능 데이터를 추적할 수 있으며, 문제가 발생하기 전에 문제를 식별하고 추적하는 데 도움을 줍니다 (영문). 또한 TEL 클린 트랙 마크 8 (Clean Track Mark 8) 은 가장 고급적이고 도전적인 마이크로 트로닉 제조 프로세스를 처리 할 수있는 강력한 포토 esist 머신입니다. 이 툴을 사용하면 정확한 웨이퍼 정렬, 정확한 에칭, 실시간 모니터링, 데이터 수집을 통해 일관된 품질, 성능, 처리량을 보장할 수 있습니다. 모든 반도체 제작 시설에 완벽한 선택입니다.