판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9265762

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7은 마이크로 전자 부품 생성과 같은 고정밀 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 가장 복잡한 구조를 쉽게 제조 할 수있는 고정밀, 저응력, 저기후 의존성 에칭 환경을 자랑합니다. TEL Clean Track Mark 7은 3 가지 구성 요소 (침수 장치, 전송 장치 및 건식 장치) 를 포함하는 시스템입니다. 침수 장치는 용매 기반 에친트 용액에 잠기는 진공 챔버입니다. 이것은 반복 가능하고 균일 한 에칭 프로세스를 제공하며, 에치 후 (post-etch) 처리가 필요하지 않습니다. 전달 장치 (transfer unit) 는 패턴 화 광사 마스크를 웨이퍼 (wafer) 에서 침수 장치 (immersion unit) 로 옮기고 건조 장치는 에칭 된 재료에서 과잉 액체를 구동합니다. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7은 가장자리 제어와 뛰어난 라인 너비 제어를 통해 직경 45nm까지 정확한 기능을 가져올 수 있습니다. 미세 제조 공정 (micro-manufacturing process) 의 범위에 사용할 수 있도록 다양한 포토레시스트 (photoresist) 재료를 처리 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 높은 정밀 수준의 웨이퍼 처리 (wafer processing) 를 특징으로하며, 5 m 길이의 스텝에 걸쳐 반복 가능한 정밀도 레벨은 0.6 m입니다. 클라인 트랙 마크 7 (Clean Track Mark 7) 은 고정밀 에칭 기술과 함께 모듈식 설계를 통해 사용자가 쉽게 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 편리하고 직관적인 운영자 인터페이스 (Operator Interface) 를 통해 프로세스 모니터링 및 제어를 지원합니다. 이 기계는 프로세스 일관성을 보장하는 기능을 내장하고 있으며, 안정적이고, 효율적이며, 안전하도록 설계되었습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7) 은 가장 고급 반도체 장치의 제작과 관련된 엄격한 요구 사항을 충족 할 수있는 효율적이고 신뢰할 수있는 포토 esist 도구입니다. 뛰어난 에치 레이트 제어 (etch rate control) 와 다양한 웨이퍼 처리 기능을 통해 고정밀 에칭을 가능하게 하며, 시간이 지남에 따라 높은 품질의 결과를 얻을 수 있습니다.