판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158028

TEL Photoresist TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (TEL Clean Track Mark 7) 은 첨단 반도체 제조 공정의 요구를 충족시키기 위해 설계된 최첨단 포토 esist 개발자입니다. 포토레시스트 (photoresist) 개발자는 웨이퍼에 패턴을 에칭하는 데 사용되므로 리소그래피 단계에서 패턴을 정확하게 재생산합니다. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7은 뛰어난 깨끗함과 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장비는 독점적 인 ASCENE ™ 배경 청소 솔루션을 사용하며, 이는 매우 낮은 배경 수준과 균일하게 분포 된 입자를 제공합니다. 이를 통해 섬세한 광사 패턴을 더 정확하게 처리 할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 첨단, 고정밀 노출 단계를 갖추고 있어 정확하고 반복 가능한 노출이 가능합니다. Clean Track Mark 7에는 패턴 에칭 최적화를 위한 강력한 이미지 분석 장치도 있습니다. 이 기계는 개발 된 저항 패턴 (resist pattern) 을 분석 및 평가하여 최상의 결과를 보장합니다. 통합 저항 코터/개발자는 기존의 포토레시스트와 새로운 포토레시스트를 쉽게 처리하여 다양한 반도체 소자 처리 응용 프로그램 (deviconductor device processing application) 에 적합합니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7에는 할로겐, 플루오린, 질소, 오존 및 산소와 같은 가스 물질 제어를 위해 강력한 가스 흐름 처리 도구가 장착되어 있습니다. 이 자산은 정확한 가스 농도 (gas concentration) 만 저항 개발 과정에서 웨이퍼를 청소하는 데 사용됩니다. 이 모델은 안전성을 염두에두고 설계 및 제작되었으며, 풀 스펙트럼 안전 인터록 (full-spectrum safety interlock), 경보 시스템 (alarm system) 및 비상 정지 버튼을 포함한 일련의 안전 구성 요소를 갖추고 있습니다. 이 장비는 또한 반도체 제조 장비를 전문으로하는 타사 테스트 실험실 인 TÜV Rheinland Semiconductor의 인증을 받았습니다. 전반적으로 TEL 클린 트랙 마크 7 (TEL Clean Track Mark 7) 은 오늘날의 고급 반도체 장치 제조 공정의 엄격한 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 포토 esist 개발자입니다. 이 시스템은 정교한 노출, 패턴 분석, 가스 흐름 처리 (gas flow handling) 기능을 갖추고 있어 고품질 이미지와 웨이퍼 클리닝을 보장합니다. 이 장치는 안전을 염두에두고 제작되었으며, 존경받는 타사 테스트 실험실 (Third-Party Testing Laboratory) 의 모든 필수 인증을 받았습니다.