판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293768004

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (TM7) 은 반도체 장치 제작에서 레이어를 정확하게 패턴화하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 최신 산업 공정 (industrial process) 에 필요한 정밀도 및 속도 (precision and speed) 를 제공하며, 프로세스 제어와 반복 가능성을 극대화하는 다양한 고급 기능을 제공합니다. TM7은 고급 리소그래피 광학 (advanced lithography optics) 을 사용하여 재료의 패턴을 나노 미터 스케일까지 에치 할 수 있습니다. 통합 석영 유리 웨이퍼 스테이지가 특징이며, 웨이퍼 표면을 가로 질러 빠르고 정밀한 이동이 가능하며, 해상도 개선을위한 고출력 아르곤 플루오 라이드 (ArF) 엑시머 소스 (excimer laser source) 가 가능합니다. 이 장치는 또한 광학 보상 기술 및 NA (Variable Numerical Aperture) 오브젝티브 렌즈를 사용하여 패턴 정확도를 높입니다. TM7은 폴리머 (polymer), 금속 (metal), 세라믹 (ceramics) 과 같은 여러 재료를 처리 할 수 있으며 접촉 및 근접 리소그래피를 포함한 다양한 유형의 프로세스에 대해 구성 될 수 있습니다. 여기에는 사전 정렬 장치 (pre-aligner unit) 가 포함되어 있어 에칭 전에 패턴에 웨이퍼를 쉽게 정렬할 수 있으며, 하향식 이미지 검사기 (top-down image inspection machine) 를 사용하여 패턴화 후 패턴을 시각적으로 검사하고 분석할 수 있습니다. 또한 TM7 은 제조 (fabrication) 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있는 다양한 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 여기에는 인사이트 (in-situ) 도량형 (metrology) 이 포함되며, 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있으며, 해상도를 향상시키기 위해 리소그래피 프로세스에 피드백을 제공 할 수 있습니다. 또한 CCSD (Collection and Comparison of Semiconductor Data) 데이터베이스를 지원하여 광범위한 데이터 수집, 환자 기록 및 비교 분석 기능을 제공합니다. 전반적으로 TEL Clean Track Mark 7 photoresist 자산은 반도체 장치 제작에서 레이어의 정확한 패턴화를 위해 중요한 플랫폼을 제공합니다. 강력한 아키텍처, 고급 옵틱 (Optic), 프로세스 제어 기능, 통합형 데이터베이스 등을 통해 안정적이고 최적화된 툴을 통해 복잡한 패턴을 빠르고 정확하게 생성할 수 있습니다.