판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786

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ID: 9218786
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Coater / Developer system, 12" Multi block Track config 1: (3) Coat cups (3) Barc cups (3) Top coat cups (6) Developer cups (3) CADH Track config 2: Resist reduction: SRRC Dev nozzle1: GP Dev nozzle2: LD Resist pump: CRD 3ml Bevel rinse: Ver 2 Oven config: PEB: (4) CPHP BCT: (5) CGHA COT: (4) CGHP ITC: (4) CGHA Post bake: (4) CLHA Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73, LA95 FIRM: SPC-116A Block diagrams 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro는 다양한 기판에 대해 고도로 제어되고 정확한 포토 리토 그래피 프로세스를 수행하도록 설계된 고급 포토 esist 장비입니다. 포토마스크 기술 (Photolithography) 이라고도 불리는 포토리토그래피 (Photolithography) 는 빛을 사용하여 두 개의 개별 재료 사이에서 패턴을 전달하는 방법입니다. 리티 우스 프로 (Lithius Pro) 는 빛과 화학 물질에 대한 높은 감도로 인해 광범위한 포토 마스킹 응용 프로그램에 대한 뛰어난 정밀도를 제공 할 수 있습니다. 이 시스템은 SynchroScan 및 AsyncScan photomask 기술을 모두 사용하는 시스템으로, 고속 마스크 구조에 대한 동시 스캔 및 처리 기능을 제공합니다. 리티 우스 프로 (Lithius Pro) 는 양성, 음수, 스핀 코팅을 포함한 다양한 포토 esist 재료와 함께 사용하도록 설계되었습니다. 감광제 (Photoresist) 는 그 물질의 패턴을 형성하기 위해 실리콘 웨이퍼 기질 (silicon wafer 기판) 과 같은 기질에 적용되는 감광 물질의 필름이다. AsyncScan과 SynchroScan photomask 기술의 조합으로 Lithius Pro는 최적의 패턴 유지 관리와 높은 종횡비 (aspect ratio) 정확도를 제공합니다. 이 장치에는 동적 스캔 속도 조절기 (dynamic scan speed control machine), 자동 톤 조정 (automatic tone adjustment), 정확한 초점 감지 도구 (focus detection tool) 와 같은 photomask 및 photoresist 응용 프로그램을 위해 설계된 여러 가지 고급 기능이 있습니다. 리티우스 프로 (Lithius Pro) 는 조정 마법사 (calibration wizard) 와 같은 내장 프로그램으로 쉽고 정확한 설정 절차를 제공하며, 이를 통해 정렬과 교정을 단순화하여 최고의 정확성과 재현성을 제공합니다. 또한 진공 클램핑 청소 모드 (vacuum clamping clean cleaning mode), 그리스, 먼지 및 기타 오염을 제거하기위한 가변 온도 청소 모드 (variable-temperature clean mode) 와 같은 다양한 표준 및 특수 청소 프로토콜을 제공합니다. 내장 검사 기능을 통해 반복 가능하고 균일 한 검사 결과를 얻을 수 있습니다. 이러한 기능을 통해 Lithius Pro는 정밀 photomask 및 photoresist 응용 프로그램을위한 강력한 도구가 됩니다. 다양한 기판에 대해 복잡한 패턴화를 수행할 수 있으며, 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 자산은 손쉽게 설치할 수 있도록 설계되었으며, 직관적인 제어와 다양한 생산성 (productivity) 및 안전 (safety) 기능을 제공하여 사진 촬영 시스템에서 높은 정확성과 효율성을 필요로 하는 사람들에게 이상적인 선택입니다.
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