판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro Z-i #293811868

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro Z-i는 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 석판화 과정 의 필수적 인 구성 요소 로서, 집적 회로 의 구성 요소 인" 실리콘 웨이퍼' 에 "패턴 '을 옮기는 일 이 포함 된다. 리티우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 는 차세대 반도체 장치 생산을 위해 높은 정밀도, 신뢰성 및 성능을 제공하도록 특별히 설계되었습니다. Lithius Pro Z-i 장치의 핵심에는 고급 트랙 플랫폼 (advanced track platform) 이 있으며, 여러 프로세스 모듈을 완벽하게 통합하여 실리콘 웨이퍼의 효율적이고 자동화된 처리를 지원합니다. 이 기계는 탁월한 성능에 기여하는 다양한 혁신적인 기술을 갖추고 있습니다. 리치우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 의 주요 특징 중 하나는 향상된 청결 및 입자 제어 기능으로, 반도체 장치의 수율과 품질을 보장하는 데 필수적입니다. 리티우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 도구는 처리 단계에서 실리콘 웨이퍼의 부드럽고 정확한 이동을 보장하는 정교한 웨이퍼 처리 자산을 갖추고 있습니다. 이 모델은 웨이퍼 접촉 (wafer contact) 과 오염 (contamination) 을 최소화하여 항복 손실 및 결함의 위험을 줄이기 위해 설계되었습니다. 또한, 리티 우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 는 고급 웨이퍼 클리닝 및 건조 기능을 제공하여 리소그래피 공정에 들어가기 전에 웨이퍼에 오염 물질이 없도록 합니다. Lithius Pro Z-i 장비의 중요한 기능 중 하나는 포토 esist 코팅 기능입니다. 광전자 (Photoresist) 는 석판 처리 과정에서 전달될 패턴을 정의하기 위해 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 증착되는 빛에 민감한 물질이다. 리티 우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 는 웨이퍼에 포토 esist를 균일하고 일관되게 코팅 할 수있는 고정밀 포토 esist 디스펜싱 시스템을 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 두께 및 적용 범위의 최소 변형을 통해 패턴이 정확하게 정의됩니다. Lithius Pro Z-i 장치는 포토 esist 코팅 기능 외에도 고급 개발 및 베이킹 모듈을 갖추고 있습니다. 노출되거나 노출되지 않은 포토 esist를 제거하여 웨이퍼의 기본 패턴을 드러내는 과정이 개발 중 (Developing) 입니다. 리티 우스 프로 Z-i (Lithius Pro Z-i) 는 정확한 화학 분배 시스템과 최적화 된 프로세스 매개변수를 사용하여 높은 개발 균일성과 반복 성을 달성합니다. 또한, Lithius Pro Z-i의 베이킹 모듈은 웨이퍼에서 포토 esist 레이어를 안정화하는 데 중요한 역할을합니다. "베이킹 '과정 중 의 온도 와 시간" 파라미터' 를 주 의 깊이 조절 함 으로써, 기계 는 감광제 가 치료 되고 굳어져서 후속 처리 단계 에 견딜 수 있게 한다. 이는 고화질 패턴을 달성하고 반도체 장치의 무결성을 유지하는 데 필수적입니다. 전반적으로 TEL Clean Track Lithius Pro Z-i는 반도체 제조를위한 고급 기능을 제공하는 최첨단 포토 esist 도구입니다. Lithius Pro Z-i는 정밀 엔지니어링, 자동화 및 고급 프로세스 제어 기능을 통해 반도체 제조업체가 차세대 반도체 제품에 대한 고수율, 고성능 장치, 더 빠른 출시 시간을 달성할 수 있도록 지원합니다.