판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9245118
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ID: 9245118
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2002
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
(2) Chemical cabinets: Solvent and developer
(2) SMC Thermo controllers: HMDS, PR
YEST YIB-TP23 T and H Controller
AC Power box
MFC: 4-Ports
Right to left
Wafer type: Notch, DUV type
DUV Type
25-Slots
Loading configuration: (4) Loader uni-cassettes
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4 Module):
(4) Dispense nozzles
With temperature controlled lines
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems
PR Such-back valve type: AMC Suck-back valve
Programmable side rinse
Direct drain
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Module):
H Nozzle
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse / Unit
Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems
Developer temperature control system
Direct drain
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Interface type: ASML
(3) High temperature hot plates
(15) Low temp hot plates
(10) Chill plates (CPL)
(4) Precision Hot Plate (PHP) process station
(3) TRS Modules
TCP Module
Wafer Edge Exposure (WEE) module
(2) TEL / TOKYO ELECTRON Temperature control units
Main controller missing
Power: AC 208 V, 3-Phase
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean TrACK ACT 8은 높은 생산성, 뛰어난 오버레이 정확도, 뛰어난 반복성을 갖춘 정밀 석판화 부품 처리 기능을 제공하도록 설계된 완벽한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템에는 레지스트 레이어의 건조 개발을위한 SIMOX 프로세스 모듈과 대규모 웨이퍼 (wafer) 및 반도체 처리 요구를 위한 모듈식 추가 기능이 있습니다. 이 장치는 단일 레이어, 단일 챔버 프로세스로 설계되어 간단하고 효과적인 저항 처리를 지원합니다. 이 제품은 노이즈를 줄이고 성능을 향상시키기 위해 혁신적인 저항 모니터와 결합된 정밀 제어 X-Y 스테이지가 특징입니다. 이 기계는 또한 조정 가능한 간격 시간으로 일련의 노출 (exposure) 을 적용함에 따라 향상된 에지 정의 및 에지 정밀도를 제공하는 트리플 노출 (Triple-Exposure) 처리 모듈을 갖추고 있습니다. 이 도구는 고급 프로세스 제어 (process control) 기술을 사용하여 낮은 photoresist 소비 수준에서 최대 정확도를 보장합니다. 또한 독점적 인 La Ra Revolution 프로세스 모니터는 실시간으로 실행을 모니터링하여 필요한 경우 신속한 수정 솔루션을 제공합니다. 이렇게 하면 프로세스 조건이 달라도 결과의 균일성이 보장됩니다. 이 자산에는 SEM 윈도우 및 OPC에 사용할 독점 PROM (Photo Resist Optimization Module) 소프트웨어도 있습니다. 이 소프트웨어를 사용하면 각 구조 유형에 대해 최적의 조건을 정확하게 계산할 수 있으므로, 더 높은 해상도의 부품을 더 적은 수의 실수 (실수) 로 제조할 수 있습니다. 이 모델은 또한 플렉시블 장비 구성 (Flexible Equipment Configuration) 과 클린 트랙 (Clean Track) 설치로 더욱 편리 따라서 다양한 운영 요구 사항에 맞게 손쉽게 조정할 수 있습니다. 요약하면, TEL Clean Track ACT 8은 사용자에게 뛰어난 오버레이 정확성과 뛰어난 반복성을 제공하는 완전한 포토리스 (photoresist) 시스템이며, 쉽게 설치하고 유연한 유닛 사용자 정의를 제공합니다. 이 기계는 photoresist 소비 수준을 낮게 유지하면서 고급 프로세스 제어, 고급 에지 정의 (edge definition) 및 소프트웨어 지원 부품 최적화 (resolution-all) 를 제공합니다.
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