판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9235802

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 반도체 산업을 위해 비용 효율적이고 향상된 포토 esist 플랫폼을 제공하는 포토 esist 장비입니다. 스캐너와 AMC (Auto Mask Chuck) 플랫폼을 결합하여 하나의 플랫폼에서 스캔-마스크 등록 및 노출 작업을 수행합니다. 이 플랫폼은 작동 비용을 줄이고, 포토리스 (photoresist) 시스템 성능을 향상시키며, 웨이퍼 1 개를 처리하는 시간을 줄여 처리량을 향상시키도록 설계되었습니다. TEL Clean Track ACT 8은 혁신적인 기술을 사용하여 노출 프로세스의 정확성과 처리량을 향상시킵니다. 마스크를 확보하는 데 사용되는 AMC (Auto Mask Chucks) 는 안정성이 높은 마이크로 돌출부를 통해 마스크를 정확하고 정확하게 정렬할 수 있습니다. 임베디드 스캐너 (Embedded Scanner) 는 자동 초점 및 스캔 속도를 통합하여 스캔 작업을 가속화하여 처리량을 향상시킵니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8에는 대용량 포트 어셈블리가 있습니다. 최대 12 개의 마스크 또는 3 개의 웨이퍼를 보유하고 있으며 2 개의 챔버로 분리되어 있습니다. 첫 번째 챔버는 노출을위한 마스크를 섭취하고, 두 번째 챔버는 비 반복 분배 편견을 줄입니다. 또한 노출 동작 (Exposure Operation) 과 분배 희석 (Dispense Dilution) 사이에서 챔버를 빠르게 교환하여 처리량을 줄임으로써 재교정을 줄일 필요가 없습니다. Clean Track ACT 8에는 마스크 노출을위한 5 메가 와트 펄스 광원 (PLS) 이 있습니다. 필름 흡수를 줄일 수 있는 낮은 배경 소스 (low background source) 와 높은 안정성을 위한 통합 설계 (integrated design) 와 같은 여러 가지 장점을 제공합니다. 또한, 활성 프로세스 모니터링 (Active Process Monitoring) 을 통합하여 시간에 따라 일정한 광원 출력을 유지하고 정확한 노출을 보장합니다. 결론적으로, TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 장치는 혁신적인 기술을 사용하여 photoresist 시스템의 처리량 및 비용 효과를 높이기 위해 개발되었습니다. 스캐너 (scanner) 와 자동 마스크 척 (auto mask chuck) 을 결합하고, 대용량 포트 어셈블리와 마스크 노출을위한 5 메가 와트 PLS를 통합합니다. 이 기능을 통해 기계는 웨이퍼 (wafer) 를 정확하고 빠르게 처리하고 반도체 업계의 포토레스 (photoresist) 공정의 비용과 성능을 향상시킬 수 있습니다.