판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198616

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198616
웨이퍼 크기: 8"
(3) Coater / (4) Developer system, 8" Right to left wafer flow (4) UNCs IFB DUV Open cassette Interface for ASML PAS 5500 Dual block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 마스크없는 노출 시스템을 사용하여 고품질 리소그래피 패턴을 생성하는 포토 esist 장비입니다. 그것 은 "레이저 '광선 의" 멀티코어' 광선 을 사용 하여 "웨이퍼 '표면 에 있는 양수 또는 음수 광사 층 을 조사 한다. "레이저 '빛 은 액정" 셔터' 에 의하여 변조 되어 "옵토일렉트로닉 '무늬 가 원하는" 패턴' 을 정확 하게 형성 하게 된다. 이 장치에는 또한 쿼츠 기판 단계 (quartz substrate stage) 가 포함되어 있는데, 이 단계는 패턴화 중에 노출 영역을 조정하기 위해 사용자 개입 없이 자동으로 이동할 수 있습니다. 레이저 소스는 전력 소비량이 적고 오존이 없습니다. 이 기계는 다양한 포토레시스트의 정밀한 정렬 및 처리로 고해상도 (high resolution) 패턴을 생성하도록 설계되었습니다. 낮은 입자 오염과 최소한의 정적 전력 생산로 클린 룸 운영을 지원합니다. 이 도구는 효율이 높고 비용 효율적이며, 고가의 마스크 제작이 필요하지 않으며, 긴 에칭 (etching) 및 드라이 클리닝 (dry cleaning) 프로세스 단계를 줄입니다. 또한 "에소시스트 '를 부가적 인 처리 단계 없이 다층" 패턴' 을 만들기 위하여 음수 로부터 양수 에 노출 시킬 수 있다. 각 포토레시스트 (photoresist) 에 대해, 모델은 프로세스 조건과 프로세스 설정을 최적화하도록 설계되었으며, 이는 다양한 프로세스 요구 사항에 맞게 조정될 수 있습니다. 장비는 메모리에 최대 8 개의 레시피를 저장할 수 있으며, 프로세스 설정에 따라 노출 시간과 레이저 전원을 조정할 수 있습니다. 또한 실시간 모니터 (Real Time Monitor) 를 통해 사용자는 변화하는 환경 조건에 손쉽게 적응하고 노출 패턴의 진행 상황을 추적할 수 있습니다. 이 photoresist 단위는 photoresist의 뛰어난 해상도, 정렬 및 정밀 패턴을 제공합니다. 저전력 소비량 (low power consumption) 과 오존 프리 레이저 소스 (ozone free laser source) 는 클린 룸 (cleanroom application) 에 적합한 반면, 비용 효율성과 시간 절약 기능은 연구자와 제조업체에게 귀중한 도구입니다. 또한, 이 기계의 내장형 모니터 및 레시피 스토리지 (레시피 스토리지) 는 석판화 사진 마스크 제조를 위한 매우 효율적이고 안정적인 솔루션입니다.
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