판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293821422

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 photolithography 응용 분야를 위해 설계된 특수 포토 esist 화학 가공 장비입니다. 이 시스템은 임계 피쳐 제어 (critical feature control) 에서 높은 정확성과 다양한 고급 석판 구조 설계에서 상당한 선택성을 제공합니다. 다양한 검사, 프로세스, 이미징 기능을 제공하여 최적의 포토레지스트 (photoresist) 처리 및 고급 석판화 설계 구조를 보장합니다. 이 장치에는 진공 척 (vacuum chuck), 멀티 트랙 스캐너, 노출 장치 및 개발자 어셈블리가 장착 된 마스크 정렬기가 포함됩니다. 마스크 정렬기의 새로 설계된 나노 포지셔너 (nano-positioner) 는 ± 3 nm의 반복성으로 정확하고 일관된 서브 미크론 정렬 정확도를 보장하여 매우 정확한 필름 접촉과 높은 처리량을 제공합니다. 멀티 트랙 스캐너는 조절 가능한 빔 스팟 크기와 스캔 로제타 인쇄 (scan rosetta printing) 및 고급 리소그래피 (lithography) 기술을 위한 고급 이미징 기능으로 고속 스캐닝을 제공합니다. 노출 장치 (Exposure Unit) 는 각기 다른 기판 재료 및 공정 요구사항에 대해 용량을 높은 정밀도로 제어하고 광원 (Light Source) 을 선택할 수있는 기능을 제공합니다. 개발자 어셈블리 (Developer assembly) 는 화학 처리 시간과 온도를 자동으로 제어하여 기계가 최적의 회로 성능을 얻을 수 있도록 합니다. 이 툴에는 디지털 레시피 라이브러리 (digital library of 레시피) 와 프로세스 기록 (process history) 이 포함되어 있어 운영자의 효율성과 반복 가능성을 보장하고 데이터 추적성을 높입니다. 라이브러리는 지원되는 모든 시스템 (Windows/Linux 운영 체제) 과 호환되며 기존 소프트웨어/하드웨어 라이브러리와 완벽하게 통합될 수 있습니다. TEL ACT 8 (TEL ACT 8) 은 다양한 통합 시뮬레이션 툴과 분석을 통해 정확한 성능 요구 사항을 충족하는 회로 성능 및 구조를 보장합니다. 전체적으로 TOKYO ELECTRON ACT 8은 업계에서 가장 높은 정확도, 선택성 및 처리량을 제공하며, 고급 석판화 구조의 최적의 포토 esist 처리 및 설계를 보장하는 가장 광범위한 검사, 프로세스 및 이미징 기능을 제공합니다. 자산의 기판 재료 및 프로세스 요구 사항을 정밀도, 정확도, 속도로 처리 (process) 하는 기능을 통해 사진 해설법 (photolithography) 응용 프로그램에 이상적인 선택이 됩니다.