판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293767233
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 고급 반도체 제작 프로세스에 사용하도록 설계된 고성능 포토 esist 장비입니다. Photoresist 시스템은 웨이퍼에서 photoresist 필름의 노출 된 패턴을 제어하도록 구성됩니다. 현대적이고 정교한 칩에 필요한 매우 정확한 패턴과 특정 형상 (geometries) 을 달성하려면 이러한 유형의 프로세스가 필요합니다. TEL ACT 8 시스템은 Dispense Unit, CD Measurement Machine 및 Laser Direct Writer의 세 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 디스펜스 도구 (Dispense Tool) 를 사용하면 포토리스 필름 재료를 기판에 정확하게 전달할 수 있습니다. CD 측정 자산 (CD Measurement Asset) 은 포토리스 필름의 회로 패턴의 임계 치수를 측정하여 정확성과 정밀도를 측정하도록 설계되었습니다. 마지막으로, 레이저 다이렉트 라이터 (Laser Direct Writer) 는 표적 회로 패턴을 날카롭게 묘사하는 매우 정확한 레이저 빔을 포토 esist에 출력합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8 모델은 빠른 자동 이미지 처리를 용이하게하는 스캐닝 전자 현미경 영상 장비와 3 차원 광도 패턴의 등각 쓰기를위한 고출력 고조파 펄스 생성기를 포함한 성능 향상 기술을 갖추고 있습니다. 이 기계에는 최적화 된 빔 프로파일 안정기 (Beam Profile Stabilizer) 와 차세대 근접 효과 교정 모듈 (Next Generation Proximity Effect Correction Module) 도 있습니다. 이러한 기능은 정밀 패턴 보상에 의해 유지되는 무한도 무결성을 가진 매우 정밀한 photoresist 패턴을 보장합니다. 이 시스템은 포토레스 필름 (photoresistfilm) 의 노출 용량을 측정하여 노출 과정에 대한 피드백을 제공 할 수있다. TOKYO ELECTRON ACT 8 장치는 고급 제어 및 모니터링 알고리즘으로 프로그래밍되어 있으며, 노출 과정을 완전히 제어하도록 설계되었습니다. 데이터베이스 관리 기능이 내장되어 있는데, 이를 통해 사용자는 매개변수를 기록할 수 있으며, 전체 노출 과정을 실시간으로 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 LAN (Local Area Network) 을 통해 호스트 컴퓨터에 접속하여 다른 장비 및 인원과 통신합니다. ACT 8 (ACT 8) 은 파퍼에 적용 된 감광 저항층에서 제조 공정에서 높은 제품 생산량을 가능하게하는 필름 노출 패턴을 정확하고 정확하게 제공합니다. 고도로 신뢰성 있는 필름 전달, 정밀한 패턴 인식 및 제어, 그리고 효율적인 이미지 분석 (image analysis) 과 고급 제어 및 데이터베이스 (database) 기능을 결합하면 최신 반도체 제품 제조에 필수적인 툴이 됩니다.
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