판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293682819

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 일련의 석판화 단계 를 통하여" 포토마스크' 에서 "실리콘 웨이퍼 '로" 패턴' 을 전달 함 으로써 집적 회로 와 "마이크로 칩 '의 패턴 을 만드는 데 중요 한 역할 을 한다. TEL ACT 8은 photoresist 코팅 및 개발 프로세스의 높은 정밀도, 효율성 및 일관성을 보장하도록 특별히 설계되었습니다. TOKYO ELECTRON ACT 8 OR ACT 12의 주요 기능 중 하나는 고급 트랙 아키텍처이며, 여기에는 코팅, 베이킹, 노출 및 개발과 같은 다양한 프로세스 단계에 대한 여러 모듈이 포함됩니다. 이 모듈식 설계를 통해 리소그래피 (lithography) 프로세스의 다양한 단계를 완벽하게 통합할 수 있으며, 다운타임을 최소화하면서 신속하게 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 이 장치에는 "와퍼 로딩 (wafer loading) '및" 언로딩 (unloading)' 프로세스 자동화를 위한 로봇 처리 시스템이 장착되어 있어 전반적인 효율성과 처리량이 더욱 향상되었습니다. TOKYO ELECTRON ACT 8의 코터 모듈 (Coater module) 은 실리콘 웨이퍼 표면에 얇은 포토 esist 물질 층을 분배하는 책임이 있습니다. 이 단계는 이후의 패턴화 단계의 토대가 될 균일하고 결함이 없는 포토레시스트 (photoresist) 레이어를 생성하는 데 중요합니다. 이 기계는 스핀 코팅 (spin coating) 또는 스프레이 코팅 (spray coating) 과 같은 고급 코팅 기술을 사용하여 웨이퍼 표면에서 매우 균일 한 필름 두께를 달성합니다. 포토 esist 물질이 증착 된 후, 웨이퍼는 포스트 코트 베이크 공정을 위해 베이킹 모듈 (Baking module) 으로 전달된다. 이 단계 는 "웨이퍼 '를 가열 하여 모든 용매 잔류 물 을 제거 하고" 웨이퍼' 표면 에 광물질 을 적당 히 접착 시킨다. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 OR ACT 12에는 정밀한 온도 조절 시스템이 장착되어 다양한 유형의 광저항 물질에 대한 최적의 베이킹 조건을 달성합니다. 다음으로, 웨이퍼는 포토마스크 및 노출 도구를 사용하여 원하는 패턴을 포토레지스트 레이어로 전송하는 노출 (Exposure) 모듈로 이동합니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 반도체 제조 공정의 특정 요구 사항에 따라 근접, 접촉 및 투영 리소그래피와 같은 다양한 유형의 리소그래피 기술을 지원합니다. 이 자산은 고해상도 이미징 기능을 제공하여 탁월한 정확도와 반복성을 갖춘 서브 미크론 패턴 (sub-micron pattern) 기능을 제공합니다. 노출 단계에 따라, 웨이퍼는 최종 개발 프로세스를 위해 Developer 모듈로 전송됩니다. 이 단계에서, 노출 된 포토 esist 물질은 화학 발전기 용액 (chemical developer solution) 을 사용하여 웨이퍼 표면에서 선택적으로 제거되어, 기본 패턴 구조를 드러낸다. Clean Track ACT 8은 온도, 시간, 동요와 같은 개발 매개변수를 엄격하게 제어하여 정확한 패턴 전달과 최소 결함을 보장하도록 설계되었습니다. 전체적으로 ACT 8 OR ACT 12는 반도체 제조 응용 분야에 탁월한 정밀도, 생산성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 포토레스 모델입니다. 첨단 기능 (Advanced Features) 과 기능을 통해 높은 성능과 기능을 갖춘 고급 집적회로 (Advanced Integrated Circuit) 와 마이크로칩 (Microchip) 을 생산할 수 없습니다.