판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293628555

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 고급 석판 공정을위한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 수직 저항 헤드 (vertical resistance head) 를 갖추고 있어 균일하고 품질이 좋은 결과를 얻을 수 있습니다. 고정밀 장치는 전체 저항 표면에서 균질한 노출을 제공합니다. 이 장치는 0.5 m 구조를 처리 할 때 높은 반복성을 갖도록 설계되었으며, 까다로운 생산 라인에 사용될 수 있습니다. 이 장치는 마스크 평면 이미징 렌즈를 특징으로하여 포토 esist를 1X에서 5X로 줄일 수 있습니다. "렌즈 '는" 렌즈' 를 조작 하여 "레지스트 '의 모든 부면 을 보고 확대 하여 원하는 결과 를 얻을 수 있다. 이 장치에는 단계 (step) 및 반복 (repeat) 기능이 있어 주기 시간을 줄이기 위해 여러 이미지, 마스크, 필름을 동시에 노출할 수 있습니다. 이 기계는 또한 4 인치에서 6 인치 사이의 기판을 수용 할 수 있으며, 5.6 인치 이하의 노출이 가능합니다. 이 도구에는 내장 된 암 (Arm) 컨트롤이 있습니다. 이 컨트롤을 사용하여 사용자는 저항 레이어를 조작하고 노출 용량, 초점, 셔터 속도 등 photolithography와 관련된 다양한 매개 변수를 액세서리 할 수 있습니다. 이 기능은 장치를 고도의 정밀도 웨이퍼 (wafer) 응용 프로그램 및 생산에 이상적인 선택으로 만듭니다. TEL ACT 8의 디자인은 사용자가 포커스 설정 (focus setting) 에 대한 노출에서 photolithography 프로세스의 모든 측면을 모니터링, 자동화 및 제어 할 수 있도록 해줍니다. 이 장치에는 프로세스 성능 및 설정에 관한 정보를 제공할 수 있는 진단 유틸리티가 내장되어 있습니다. 이 장치에는 또한 온도 조절 설정 (Temperature Control settings) 이 있어 photolithography 프로세스를 개선하고 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 에셋은 고정밀 디지털 서보 모터를 사용하여 기존 아날로그 서보 모터에 비해 훨씬 더 높은 수준의 정확도를 제공합니다. 이 장치에는 마스크 및 필름의 정확한 위치 지정 및 정렬을 위한 반복 가능한 (high repeatable) 정렬 설정도 포함되어 있습니다. 이 모든 기능은 TOKYO ELECTRON ACT 8이 고급 석판 공정을 달성하기에 이상적인 도구인지 확인합니다. 이 장치는 반도체 산업에서 가장 발전된 프로세스 중 하나 인 1/4 이하의 미크론 해상도 (micron resolution) 투영 리소그래피 (lithography) 와 같은 프로세스를 촉진 할 수 있습니다. 따라서 이 장치는 정확한 프로세스 제어 설정 (process control settings) 과 정확한 결과가 필요한 모든 석판 처리 응용 프로그램에 적합합니다.