판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #193036

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 193036
웨이퍼 크기: 8"
(4) Coater / (4) Developer system, 8" Double block IFB (4) SUCs SMIF CSB.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 TEL Limited (TOKYO ELECTRON) 회사에서 개발하고 제조 한 포토 esist 장비입니다. 시장에서 최고의 포토 esist 시스템 중 하나입니다. 이 시스템은 유해한 잔류물없이 깨끗하고 일관된 노출 된 포토 esist를 제공하도록 설계되었습니다. TEL Clean Track ACT 8 장치는 스프레이 전달 기계, 워터 제트 보조 스프레이 전달 도구, 헤드 유닛, 헤드 스테이지 및 컨트롤러로 구성됩니다. 스프레이 전달 에셋은 유리 표면에 포토 리스트 (photoresist) 를 원자 화하고 전달하는 데 사용된다. 이어서, 원자 화 된 방울은 기질에 균등하게 퍼진다. 워터 제트 보조 스프레이 전달 모델 (water-jet assisted spray delivery model) 은 포토 esist 입자의 분산력을 증가시켜 기판에 짝수 필름을 형성한다. 헤드 유닛 (head unit) 은 노출 기판을 정확하게 배치하는 데 사용되며, 헤드 스테이지 (head stage) 는 노출 방사선 하에서 저항을 정확하게 배치하는 데 사용됩니다. 컨트롤러는 노출 프로세스의 물리적 매개변수 (예: 강도, 지속 시간, 노출 깊이) 를 제어하는 데 사용됩니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8에는 화학 탐지 장비, 접촉 방지 시스템, 스플래시 가드 등 다양한 고급 안전 기능이 장착되어 있습니다. 화학 물질 탐지 장치 (chemical detection unit) 는 기계에 사용되는 포토레시스트의 농도를 모니터링하고 위험한 유출 또는 방출을 방지합니다. 접점 방지 도구 (Anti-contact tool) 는 기판과 노출 소스 사이의 접촉을 방지하여 손상 위험을 최소화합니다. 스플래시 가드 (splash guard) 는 포토 esist의 스프레이 방출 속도를 줄여 깨끗하고 균일 한 노출을 보장합니다. Clean Track ACT 8은 리소그래피 및 패턴화 프로세스에 사용하도록 설계되었습니다. 에셋은 패턴 레이어를 기판으로 정확하고 정확하게 전달하는 데 사용되며, 최고 품질의 포토 esist 필름 (photoresist film) 을 제공합니다. 이 모델은 반도체 웨이퍼, 집적 회로, 플랫 디스플레이, 몰드 및 기타 컴포넌트의 노출에 적합합니다. 이 장비는 또한 다양한 포토레시스트 (photoresist) 와 호환되므로 사용자가 자신의 요구에 가장 적합한 포토레시스트 (photoresist) 를 선택할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8은 안정적이고 사용하기 쉬운 시스템으로, 고정밀 노출 기능과 고급 안전 기능을 제공합니다. 이 photoresist 단위는 기본 리소그래피에서 복잡한 패턴화에 이르기까지 다양한 산업 응용 분야에 이상적입니다.
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