판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9395682

ID: 9395682
웨이퍼 크기: 12"
System, 12" Single block FOUP Open cassette No nozzles No Stepper / Scanner interface No hot / chill / transfer plates and types No chemical cabinet No T&H (Temperature and Humidity) No power distribution box and AC transformer No IDI and RRC pumps No DEV and EBR systems No HDD.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 photoresist 장비는 오염을 줄이고 성능을 향상시키기 위해 설계된 고급 기능이 장착 된 고정밀 자동 사진 촬영 기계입니다. 이 시스템은 다양한 기판을 처리하고 최소 왜곡 (distortion) 과 정밀도 (precision) 로 매우 정확한 구조를 생성 할 수 있습니다. TEL Clean Track ACT 12는 가공 전에 기판에서 공기 거품, 먼지 및 기타 오염 물질을 제거하도록 설계된 최첨단 진공 프로세스를 사용합니다. ··· 기질 오염 은 특수 고온, 고압 청소 과정 을 이용 함 으로써 더욱 최소화 된다. 이 장치에는 자동, 광학 정렬 장치 (Optical Alignment Machine) 도 포함되어 있습니다. 이 기판은 Photolithography 프로세스의 각 단계에 대해 기판 및 마스크 패턴을 정확하게 정렬하여 정확도를 높입니다. 이 도구는 고성능, 12 구역 노출 램프를 사용하여 기판을 빛에 정확하게 노출시키고, 각 영역은 컴퓨터 제어 자산에 의해 독립적으로 제어됩니다. '총 노출 시간' 을 정확하게 제어하여 '과도한 노출' 없이 정확한 패턴화를 보장할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 특수 마스크 테이블 어셈블리를 사용하여 높은 수준의 진동 제어를 유지하고 열 왜곡을 줄입니다. 또한, 이 모델에는 여러 컨트롤러와 피드백 센서가 장착되어 있는데, 이 센서는 표의 압력, 온도, 진동을 모니터링하여 이러한 수준을 사양 내에 유지합니다. 이 장비에는 또한 정확한 화학 코팅 (chemical coating) 을 보장하는 고급 화학 분배 시스템 (advanced chemical dispense system) 과 재 사용을 위해 포토 esist를 복구하는 특수 화학 회수 장치 (specialized chemical recovery unit) 가 포함되어 있습니다. 포토리토그래피 프로세스 (photolithography process) 에 따라, 기계에는 특수 후처리 장치가 장착되어 있는데, 이 장치는 기판의 프로파일을 정확하게 측정하여 정확도를 확인하고 결함을 감지할 수 있습니다. 처리 후 장치 (post-processing unit) 는 또한 청소 과정을 돕고 화학 잔기 및 나머지 오염 물질을 제거하는 데 사용됩니다. 요약하면, Clean Track ACT 12 photoresist 도구는 최소한의 왜곡과 정밀도를 가진 고정밀 구조를 생산하도록 설계된 고도의 자동 석판화 기계입니다. 자산은 여러 가지 고급 기능을 활용하여 오염을 최소화하고, 정확성과 성능을 향상시킵니다.
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