판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 TEL (TOKYO ELECTRON) 이 개발 한 포토 esist 처리 장비입니다. 반도체 장치 제조와 관련된 석판 처리 및 후처리 단계를 모두 지원합니다. 이 시스템은 레이저 스캐너 (laser scanner), 액체 침수 장치 (liquid immersion unit) 및 자동 분배 및 정렬 장치 (automatic dispense and aligner) 를 결합하여 포토 esist 처리를위한 다용도 도구입니다. 레이저 스캐너는 초단파 레이저 펄스 너비를 사용하여 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 포토 esist 레이어를 노출시키는 데 사용됩니다. "레이저 '맥박 은 정확 한 특징 무늬 를 위한 광저항 층 을 반사 하도록 세밀 하게 조정 된다. 액체 침수 기계는 가공실 내에서 분배 된 액체의 천연 부력을 이용하여 균일 한 광전자 코팅 (photoresist coating) 을 보장한다. 분배 및 정렬기를 사용하면 필요에 따라 추가 저항 레이어를 정확하게 적용 할 수 있습니다. TEL Clean Track ACT 12는 다양한 노출을 허용하며, 처리 매개변수를 조정하여 원하는 피쳐 패턴을 변경할 수 있습니다. 에치 프로세스의 경우 고밀도 피쳐 패턴화 (high density feature patterning) 또는 선 너비 제어 (line width control) 를 선택할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 프로세싱을 특정 설계 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 도구는 안전 기능을 갖추고 있습니다. 레이저 스캐너의 인라인 카메라 센서 (in-line camera sensor) 는 웨이퍼가 올바르게 배치되고 오염이 없는지 확인합니다. 또한, 침수 자산 (immersion asset) 은 포토 esist 오염을 줄이기 위해 효과적인 수단을 제공하여 사용자가 웨이퍼 (wafer) 또는 가공 챔버 (processing chamber) 의 오염에 대해 걱정할 필요가 없습니다. 300mm 웨이퍼 처리를 위해 설계된 TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 이전 모델보다 향상된 처리량을 제공합니다. 이 모델은 저비용 (low cost) 소모품을 사용하며, 에너지 사용에 매우 효율적이며, 사용자는 운영 비용을 절감할 수 있고, 환경 면적도 줄일 수 있습니다. 전반적으로 Clean Track ACT 12는 최신 반도체 장치 요구를 충족하도록 설계된 최첨단 포토 esist 처리 장비입니다. 레이저 스캐닝 (laser scanning), 액체 침수 (liquid immersion) 및 알리너 (aligner) 기술을 통해 생산에 대한 빠른 처리 시간을 지원하는 반면, 내장 안전 기능은 최고 수준의 공정 제어를 유지합니다. 이 시스템의 저비용 (LCO) 및 에너지 효율성 (Energy Efficient) 설계는 모든 반도체 생산 프로세스에 귀중한 비용 효율적인 도구입니다.