판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9239542

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ID: 9239542
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2005
SOG System, 12" Process block: Single block system Hard Disk Drive (HDD) CSB: Equipment controller Stage / Indexer: (4) Foup indexers CRA / Cassette block robotics arm PRB: SOD Unit 2-1: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup SOD Unit 2-2: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup PRA / Process Block Robotics Arm (6) LHP / Low Temperature Hot Plate Stations (4) CPL / Chilling Plate Process Stations TRS / TCP: Transition Stage Unit CWH / Cup Washer Holder Unit External chemical supply system: Solvent supply system for (2) SOD units Solvent chemical type Canister tank to auto supply system with (2) PCS pump tanks Tank type: (2) Pump tanks (3 Liters/Tank, Teflon) to cover (2) coat units TEL OEM TCU / Temperature control unit: SMC Circulator pumps and thermo controller Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean TrACK 12 (TEL/TOKYO ELECTRON Clean TrACK ACT 12) 는 현대 반도체 제조 메이크업의 생산 및 엔지니어링 프로세스 응용 분야에 대한 고성능 표준을 달성하기 위해 설계된 고급 포토 esist 도구 장비입니다. 이 시스템은 하드웨어 (hardware) 와 소프트웨어 (software) 구성요소의 고유한 조합을 특징으로하며, 모두 함께 작동하여 매우 효율적이고 정확한 포토레지스트 (photoresist) 처리 솔루션을 제공합니다. 그 핵심에는 사용자 친화적 운영을 보장하기 위해 설계된 고성능 소프트웨어 플랫폼 (HPS) 을 포함하여 최첨단 구성요소를 다수 통합한 멀티 챔버 (Multi-Chamber) 장치가 있습니다. 이 플랫폼은 안정적인 결과, 직관적인 제어, 신속한 처리, 효율성 극대화를 보장합니다. 또한, 기계 자체는 다양한 프로세스 요구사항의 요구를 충족할 수 있는 다용도 (Versonability) 와 사용자 정의 (Customizability) 를 극대화할 수 있는 다양한 기능과 기능을 제공합니다. 공구의 핵심은 멀티 챔버 챔버 설계 (multi-chamber chamber design) 내에 있으며, 따라서 각 챔버는 다른 챔버와 완전히 분리 된 독립적 인 프로세스를 지원합니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수를 사용자정의하고 각 작업에 대한 photoresist 처리 수준을 제어할 수 있습니다. 또한, 다중 미디어 가속기 챔버는 사출 펌프의 초정밀 제어를 사용하여 포토 esist 물질의 일관성, 정확성, 정밀 분산을 보장합니다. 이 자산은 모델 수준의 프로세스 통찰력 (model-level process insight) 과 같은 다양한 사용자 기능을 지능적으로 통합하여 포토리스 (photoresist) 처리 시간의 정확성과 속도를 향상시키는 플랫폼을 기반으로 합니다. 이는 모든 운영에 대해 신뢰성이 높은 프로세스를 보장합니다. 또한, 이 장비는 사용이 간편한 데이터 수집 기능과 완벽하게 통합된 통계 분석 패키지 (statistical analysis package) 를 통해 프로세스 처리량 및 생산성을 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. 마지막으로, TEL Clean Track ACT 12는 잘못된 재료 입력의 위험을 크게 줄이고 오염으로 인한 손실을 최소화하기 위해 설계된 견고한 안전 시스템을 중심으로 구축되었습니다. 이렇게 하면 전체 장치에 걸쳐 모든 photoresist 프로세싱의 프로세스 무결성 및 제품 품질이 보호됩니다. 결론적으로, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 사용자에게 고급 하드웨어 및 소프트웨어 구성 요소를 제공하는 고가용성 포토레지스트 (photoresist) 도구 기계로, 모두 고성능, 신뢰성, 신뢰할 수 있는 포토레지스트 처리 도구를 제공하도록 설계되었습니다. 이 자산은 사용자 친화적 인 컨트롤, 신속한 처리 처리량, 직관적인 데이터 획득, 통계 분석 도구, 오염의 위험을 줄이는 강력한 안전 장비 (SSI) 를 갖춘 맞춤형 멀티 챔버 (multi-chamber) 모델을 중심으로 구축되었습니다. 이 모든 속성은 모든 photoresist 관련 프로세스에서 최대 정확도와 효율성을 보장하기 위해 함께 작동합니다.
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