판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9087044
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판매
ID: 9087044
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2003
Dual block coater / developer system, 12"
Track configuration 1:
Coat cup: 1
BARC cup: 1
Top Coat cup: 1
Developer cup: 2
ADH: 1
Track configuration 2:
Resist Reduction: RRC
Dev Nozzle: LD
Resist pump: RDS 4ml
Oven Configuration:
PEB: PHP x3
BCT: PHP x2
COT: PHP x2
Post bake: CHP x3
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73
Currently installed
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 TEL Limited의 반도체 장치 처리에 사용되는 포토 esist 청소 장비입니다. 광전자 클리닝 시스템은 IC 칩 표면에서 광전지 잔기 (photoresist residue) 및 실리콘 오염을 효율적이고 효과적으로 제거하도록 설계되었습니다. 이 장치는 메가소닉 유닛, 저항 도금 탱크, 전자 빔 조사 챔버 (electron beam irradiation chamber) 및 컨트롤 패널로 작동하는 적외선 CCD 카메라에 연결된 저항 트랙으로 구성됩니다. 메가 소닉 (megasonic) 유닛이있는 저항 트랙은 고주파 음파를 사용하여 IC 칩 표면에서 포토 esist 잔기를 제거하는 데 사용됩니다. 저항 도금 "탱크 '는" 칩' 위 에 전도층 을 증착 시키는 데 사용 되며, 전자 "빔 '조사" 챔버' 는 전자 "빔 '으로" 칩' 을 조사 하는 데 사용 되어 광저항 잔기 를 완전 히 제거 할 수 있게 한다. 적외선 CCD 카메라 (적외선 CCD camera) 는 청소 과정이 성공적인지 확인하기 위해 나머지 포토 esist 잔기를 감지하는 데 사용됩니다. TEL Clean Track ACT 12를 사용하면 전자 장치에 사용되는 IC 칩을 효율적이고 경제적으로 청소할 수 있습니다. 기계의 사용은 또한 포토 esist 잔기 (photoresist residue) 가 완전히 제거되지 않아 발생하는 문제를 완화시켜 장치 장애로 이어질 수 있습니다. 또한, 이 도구의 고품질 전자 빔 조사 챔버 (electron beam irradiation chamber) 는 IC 칩의 품질이 손상되지 않도록 보장합니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 photoresist 잔기 제거 및 실리콘 오염 청소의 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 방법으로, 전자 장치의 안정적인 작동을 보장합니다. 사용이 쉽고 효율적이며, IC 칩이 최고 품질을 통해 청소됩니다. IC (IC) 칩의 적절한 전기 작동을 보장하고, 제품 장애를 줄이고, 고객과 제조업체를 모두 보호하는 안정적인 자산입니다.
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