판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293823519

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track은 포토 esist 프로세스를 지원하는 통합 장비입니다. 이 시스템은 자동 클리닝 장치 (automated cleaning unit), 자동 위치 지정 장치 (auto-positioning unit), 모니터 장치 (monitor unit) 및 웨이퍼 매핑이 있는 검사 장치 (inspection unit) 의 네 가지 주요 컴포넌트로 구성됩니다. 자동 청소 장치 (automated cleaning unit) 는 실에 포토 esist 물질이 깨끗하고 오염 물질이 없도록 유지하도록 설계되었습니다. 깨끗한 챔버, 이중 챔버 먼지 수집기 및 하이드로 사이클론 먼지 분리기 (hydrocyclone dust separator) 로 구성됩니다. 이중 챔버 먼지 수집기 (dual chamber dust collector) 는 방을 통과하는 공기에서 먼지 입자를 분리하고, 이어서 하이드로 사이클론 먼지 분리기 (hydrocyclone dust separator) 에 갇힌다. 클린 챔버 (clean chamber) 는 포토레지스트 (photoresist) 재료를 처리하는 곳이며, 포토레시스트의 품질과 성능이 최적화되도록 지속적으로 모니터링됩니다. 자동 위치 장치 (auto-positioning unit) 는 photoresist 재료 응용 과정을 쉽고 효율적으로 만듭니다. 이는 2 개의 광 스케일과 2 개의 선형 스케일로 구성되며, 이는 필요한 노출 지점을 정확하게 설정하는 데 도움이됩니다. 이를 통해 사용자는 주어진 응용 프로그램의 포토리스 (photoresist) 재료에서 원하는 노출을 정확하게 조정할 수 있습니다. 모니터 기계는 공구의 두뇌 역할을 합니다. 자동 클리닝 장치 (automated cleaning unit), 자동 위치 지정 장치 (auto-positioning unit) 및 검사 장치 (inspection unit) 의 데이터를 기록한 터치 패널 디스플레이와 통합 컴퓨터로 구성됩니다. 그런 다음 이 데이터를 분석하여 포토리스 소재 (photoresist material) 의 최적의 노출 타이밍, 레벨 및 위치를 결정할 수 있습니다. 웨이퍼 매핑이있는 검사 장치 (Inspection Unit) 를 사용하면 포토 esist 재료에 대한 자세한 시각적 검사를 할 수 있습니다. 고해상도 이미징 카메라와 강력한 조명 자산으로 구성되어 있습니다. 이를 통해 포토 esist 재료의 표면 특성 (예: 결함, 입자 크기, 구조적 균일성) 을 명확하고 자세히 조사 할 수 있습니다. 파퍼 매핑 (wafer mapping) 은 응력 (stress) 이나 왜곡 (distortion) 영역을 찾는 데 도움이되며, 포토리스 물질 (photoresist material) 의 결함을 수정하는 데 사용될 수 있습니다. TEL 청소 트랙 (TEL Clean Track) 은 효율적이고 신뢰할 수 있는 모델로 photoresist 프로세스가 쉽고 효율적입니다. 자동 클리닝 장치 (automated cleaning unit) 와 자동 포지셔닝 장치 (auto-positioning unit) 는 포토레시스트 재료를 정확하고 정확하게 적용하는 데 도움이 되며, 모니터 장비 및 검사 장치에서는 세부적인 분석 및 시각적 검사를 통해 포토레시스트 재질이 최고 품질인지 확인합니다.