판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293592464

TEL (TE) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12는 장치 제작을 위해 마이크로 일렉트로닉스 산업에 사용되는 '포토 esist' 장비입니다. 광저항제는 빛의 특정 에너지에 민감한 화학 제제입니다. 빛 에 노출 되면, 광물질 내 의 분자 들 이 반응 을 나타내어, 그 들 의 분자 상태 가 변하게 된다. 일반적으로, 포토 esist는 특정 패턴을 만들기 위해 웨이퍼 (wafer) 에 배치되며, 이러한 패턴을 사용하여 대규모 집적 회로를 만들 수 있습니다. TEL Clean Track ACT 12 시스템은 청소 능력 향상, 생산성 향상, 더 깨끗한 결과 등 전통적인 포토 esist 시스템에 비해 몇 가지 이점을 제공합니다. 공정 종료 시 노출 후 예금을 청소하는 능력은 특히 유익합니다. 또한 빠르고 비용 효율적이며, 기존 시스템에 필요한 시간의 10 분의 1 미만으로 우수한 결과를 얻을 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12에는 스핀/스프레이 유닛 (Spin/Spray Unit) 이 장착되어 있으며 진공 상태에서 반도체 웨이퍼에 포토 esist를 적용하는 데 사용됩니다. 광전자는 스핀/스프레이 컵 (spin/spray cup) 에 배치되는데, 이는 광전자로 채워진 속이 빈 플라스틱 컵입니다. 그런 다음, "컵 '을 회전 하는" 스핀들' 위 에 놓고 적합 한 속도 로 회전 하여 "웨이퍼 '에 포토레지스트' 를 골고루 분배 시킨다. 이 과정 은 또한 "포토레지스트 '가" 웨이퍼' 의 전체 표면 에 균등 하게 분포 되어 일관성 있는 "패턴화 '결과 를 얻도록 한다. 포토레지스트가 웨이퍼에 적용되면, 원하는 시간 동안 Clean Track ACT 12의 광원에 노출됩니다. 이 기계는 최고의 노출 균일성을 위해 빛을 가리는 고강도 수은-증기 램프 (mercury-vapor lamp) 를 가지고 있습니다. 그런 다음 photoresist는 도구의 동요 된 개발자 용액 욕조에서 개발됩니다. 이렇게 하면 포토레지스트의 노출되지 않은 부분이 제거되고, 웨이퍼의 패턴이 남게 됩니다. 마지막으로, 자산에는 고급 클리닝 모듈 (advanced cleaning module) 이 장착되어 있으며, 스프레이 헤드 캐스케이드 (cascade of spray head) 로 구성되어 여러 가지 용매가 분산되어 웨이퍼에서 잔류 물을 정확하게 청소합니다. 이 자동 클리닝 기술 (Automated Cleaning Technology) 은 탁월한 클리닝 결과를 제공하며, 웨이퍼에서 클리닝 테이프 밝기를 달성하는 데 필요한 시간과 인건비를 대폭 줄입니다. 요약하면, TE TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 photoresist 모델은 장치 제작에 이상적인 솔루션입니다. 이 제품은 탁월한 클리닝 성능, 생산성 향상, 그리고 디바이스 제작의 다음 단계에 대비한 클린 웨이퍼 (clean wafer) 를 제공합니다. 자동 (automated) 기능과 결합된 빠르고 비용 효율적인 운영으로, 반도체 제조업체에게는 매력적인 선택입니다.