판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON CL1300 #293607976

TEL/TOKYO ELECTRON CL1300은 높은 정확도, 낮은 오버프레이 및 최대 처리량을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. TEL CL1300 에는 다양한 반도체, MEMS 및 하이브리드 (hybrid) 제작 애플리케이션에서 사용할 수있는 여러 기능이 포함되어 있습니다. 이 시스템은 최대 400mm 직경의 기판을 처리 할 수있는 대용량 프로세서 (Large Area Processor) 와 최대 4 인치 크기의 기판을 수용할 수있는 사용 가능한 치수 길이 (Dimension Length) 를 갖추고 있습니다. TOKYO ELECTRON CL1300 (TOKYO ELECTRON CL1300) 은 최대 5 마이크로닉스 해상도로 기판을 처리하여 광범위한 제조 및 처리 기술에 이상적입니다. 또한, 이 포토레스 장치 (photoresist unit) 의 챔버 부피는 101 리터 이상이며, 크고 복잡한 기판을 단일 설정으로 처리 할 수있다. 포토리스 (photoresist) 머신에는 여러 가지 안전 및 제어 기능이 장착되어 있어, 제작을 위한 안정적이고 안정적인 도구입니다. CL1300 에는 정확하고 반복 가능한 프로세스 제어를 위한 PLC 제어 자산 (터치 스크린 제어판 포함) 이 포함되어 있습니다. 또한 처리 중 기판이 제자리에 유지되도록 동작 탐지기 (motion detector) 가 포함되어 있습니다. 운영자 안전을위한 정적 방지 신발; 오염 물질이 모델에 들어가지 못하게하기위한 안전 장벽. TEL/TOKYO ELECTRON CL1300은 스핀 코팅, 공압 및 제트 스프레이 코팅, 증발 및 레이저 보조 포토 esist 코팅이 가능합니다. 이 포토리스 (photoresist) 장비는 독점 소프트웨어 시스템을 사용하여 제조 과정에서 매개변수를 모니터링하고 조정하여, 보다 효율적이고 예측 가능한 포토리스 (photoresist) 패턴을 제공합니다. 또한 TEL CL1300은 멀티 존 (multi-zone) 난방 및 냉각 시스템을 제공하여 다양한 포토 esist 패턴을 가능하게합니다. 유지 보수 측면에서, TOKYO ELECTRON CL1300 (TOKYO ELECTRON CL1300) 은 포토 esist의 성능 저하를 방지하기 위해 여러 기능으로 설계된 최소한의 유지 보수가 필요합니다. 여기에는 외국 입자와 오염 물질의 존재를 줄이기 위해 고급 여과 장치 (advanced filtration unit) 가 포함됩니다. 포토 마스크가 실격 및 오염에서 벗어날 수 있도록 화학적 활성 스캐너; 열 사이클링을 최소화하고 photoresist 분해를 최소화하는 온도 조절 기계. 요약하면, CL1300 포토레시스트 (photoresist) 도구는 다양한 제작 및 처리 요구에 이상적인 솔루션으로, 높은 정확도, 낮은 오버프레이, 최대 처리량, 다양한 안전 및 제어 기능을 제공합니다. 최대 5 "미크론 '의 해상도 로 거대 한 기판 을 처리 할 수 있고, 성공 에 필요 한 정확성 과 신뢰성 을 제공 하기 때문 에, 그것 은 모든 실험실 이나 산업 응용 에 이상적 인 해결책 이다.