판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285382

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 비용 효율적인 고성능 표면 처리를 제공하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 기판에 적용된 포토레지스트 (photoresist) 의 청소, 제빵 및 개발을 위한 자동 도구입니다. 그것 은 "헬륨 ', 질소 및 산소 의 조합 을 사용 하여 달리며, 크기 가 최대 8" 인치' 인 기질 을 처리 할 수 있다. TEL ACT 8은 photoresist applicator와 image transfer chamber의 두 가지 주요 부분으로 구성됩니다. "헬륨 '은 감광제" 필름' 을 기판 에 바르는 데 사용 되는 반면, 질소 는 "베이킹 챔버 '에서 굽기 전 에 감광제 를 안정화 시키는 데 사용 된다. 그 다음에는 PLC (programmable logic controller) 에 의해 제어되는 고온 베이크 사이클이 이어집니다. 기질이 포토리스 스트 (photoresist) 로 코팅되고 구운 후, 이미지 전송 챔버로 보내집니다. 여기 서, "패턴 '을 만들기 위하여 한 층 의 광사 가 빛 에 노출 된다. 노출 소스 (Exposure Source) 는 기판 상단에 위치하며 원하는 패턴을 제공하기 위해 제어됩니다. 그 후, 기질은 공기, 질소 및 개발자의 조합에 의해 개발된다. 마지막으로, 린스 목욕은 과도한 저항을 제거합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8은 온도, 노출 수준, 프로세스 시간, 개발자 구성 등 다양한 매개 변수를 자동으로 조정하도록 프로그래밍 될 수 있습니다. 이를 통해 다양한 포토 esist 구성 요소를 다른 기질에 사용할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 정교한 제어 인터페이스 (Control Interface) 가 포함되어 있어 원격으로 작동할 수 있으며, 자동화된 운영 시스템에 쉽게 통합할 수 있습니다. 결론적으로, TEL ACT 8은 정확하고 비용 효율적인 표면 처리를 제공하도록 설계된 photoresist 기계입니다. 공구의 원격 제어 (remote control) 뿐만 아니라 다양한 매개변수를 조정할 수 있는 자동 (automated) 기능이 장착되어 있습니다. "헬륨 ', 질소 및 산소 와 고온" 베이크' 주기 를 사용 함 으로써, ACT 8 은 광전도사 의 청소, 굽기 및 발전 을 최소한 의 노력 으로 달성 할 수 있게 한다.