판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285377

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 (TEAC-8) - Photoresist Equipment는 반도체 장치 생산을 위해 광석기 학적 웨이퍼를 만들도록 설계된 전문 장비입니다. 노출 메커니즘을 사용하여, TEAC-8 (TEAC-8) 은 컴퓨터가 제공하는 디지털 이미지를 기반으로 웨이퍼 표면에 패턴을 형성합니다. TEAC-8은 흡수 속도가 낮은 것을 포함하여 다양한 두께의 가벼운 민감성 물질과 호환됩니다. 4K 해상도 (4K resolution) 는 석판 패턴 형성에서 매우 높은 수준의 선명도를 가능하게하며, 노출 조건에 대한 정확한 제어를 가능하게한다. TEAC-8은 복잡한 하드웨어 구성 요소 네트워크를 사용하여 리소그래피 (lithography) 를위한 최적의 자연 환경을 만듭니다. 이러한 구성 요소에는 기계식 단계, 레이저, 거울 및 동력 셔터 시스템이 포함됩니다. 이 구성 은 노출 "시스템 '을 광학" 렌즈' 와 일치 시킬 때, 광학 "렌즈 '의 부드럽고 일관성 있는 연출물 로 번역 할 때 극도 의 정확성 을 허용 한다. 이 장치는 25 나노 미터 ~ 2.5 미크론 (250 만 나노 미터) 범위의 라인 너비를 사용할 수 있습니다. 이 광범위한 노출 수준을 통해 TEAC-8은 다양한 유형의 석판 응용 프로그램 (lithographic application) 의 요구를 충족시킬 수 있습니다. 또한 웨이퍼 제작 생산의 요구를 충족시키기 위해 8 x 8 인치 웨이퍼를 생산할 수 있습니다. 뛰어난 노출 기능 외에도, TEAC-8은 웨이퍼를 청소하고 준비하는 데 필요한 전체 프로세스 후 (post-process) 옵션 라인을 제공합니다. 여기에는 현장 하드 베이크, 개발, 청소, 에칭 및 치료 서비스가 포함됩니다. 이 올인원 솔루션은 향상된 최종 제품을 위한 하드웨어 및 소프트웨어 솔루션을 제공합니다. TEAC-8 (TEAC-8) 은 고품질 웨이퍼를 생산하기 위한 효과적인 기계이며, 신뢰할 수있는 결과 시간과 시간을 다시 생성하는 것으로 입증되었습니다. 그 성능은 의료 기기, 칩 생산 등 수많은 산업에서 웨이퍼 제작에서 입증되었습니다. 적절한 청소, 유지 보수 및 처리 기능을 통해 웨이퍼 (wafer) 생산의 수명을 쉽게 연장할 수 있습니다.