판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9273823

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 고급 반도체 생산 프로세스를위한 고정밀 사진 분석 장비입니다. 이 시스템은 고급 레이저 사진 해설법 (Advanced Laser Photolithography) 을 사용하여 정확한 물리적 치수와 높은 수준의 디테일을 갖춘 확장 (Scaled-down) 전자 장치와 부품을 생성합니다. TEL ACT 8 장치는 실리콘 웨이퍼, 절연 기판 및 인쇄 회로 보드와 같은 다양한 재료에 CMOS, BiCMOS, DMOS 및 BCDMOS 집적 회로의 제작을위한 다용도 플랫폼을 제공합니다. 이 기계는 가장 어려운 석판화 공정을 처리하기 위해 뛰어난 안정성과 동적 반응을 갖춘 고급 레이저 제어식 레이저 하드웨어 (Advanced Laser Controllable Laser Hardware) 를 갖추고 있습니다. 이 도구는 다양한 재료 및 장치 구조를 마스킹, 포지셔닝 및 노출하기 위해 248nm ~ 356nm에서 다른 파장에서 작동하는 여러 FELIX 레이저를 사용합니다. 또한 ScanCam 유형의 laserWriter 사진 마스크 생성기를 사용하여 미세 회랑의 고급 포토 마스크 패턴을 1/10 마이크로미터 너비의 낮게 배치합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8의 포토레스 프로세서 (photoresist processor) 는 고해상도와 빠른 응답 시간으로 인해 x-ray 및 stepper lithography 기반 접근 방식보다 우수한 고급 레이저 구동 스캐닝 시스템을 사용합니다. 이 프로세서는 고급 제트 처리, 펄스 제트 펌프 (pulse jet pump) 기술 및 다양한 쿠션 수준을 갖추고 있어 고급 처리 결과를 보장합니다. 또한 ACT 8은 고도의 열 이미징 기술을 사용하여 전자 장치 및 기판의 정확하고 반복 가능한 검사 (Inspection) 및 측정을 수행합니다. 또한 자재 (material) 및 프로세스 제어를 위한 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공하여 이미지 데이터를 실시간으로 분석하고 표시합니다. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 고급 반도체 생산 프로세스의 까다로운 요구 사항에 적합한 고급 사진 촬영 자산입니다. 이 모델은 고성능, 기술적으로 복잡한 장치를 신속하게 개발하는 한편, 첨단 전자 제품 제작을 위한 매우 정확하고 안정적인 플랫폼 (platform) 을 제공합니다.